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1. (WO2018139725) COMPOSITION D'AGENT DE REVÊTEMENT POUR LA PROTECTION DES TRANCHES DE SILICIUM LORS D'UN PROCESSUS DE DÉCOUPAGE AU LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/139725 N° de la demande internationale : PCT/KR2017/008796
Date de publication : 02.08.2018 Date de dépôt international : 11.08.2017
CIB :
C09D 7/12 (2006.01) ,C09D 129/04 (2006.01) ,C09D 139/06 (2006.01) ,C09D 133/08 (2006.01)
Déposants : MTI CO.,LTD[KR/KR]; (Mongnae-dong) 39, Mongnae-ro 122beon-gil, Danwon-gu, Ansan-si, Gyeonggi-do 15598, KR
Inventeurs : PARK, Sung Kyun; KR
PARK, Jong Bo; KR
Mandataire : KASAN IP & LAW FIRM; 7th Floor, Hanwon Building, 2423 Nambusunhwan-ro, Seocho-gu, Seoul 06719, KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-001236926.01.2017KR
Titre (EN) COATING AGENT COMPOSITION FOR WAFER PROTECTION IN LASER SCRIBING PROCESS
(FR) COMPOSITION D'AGENT DE REVÊTEMENT POUR LA PROTECTION DES TRANCHES DE SILICIUM LORS D'UN PROCESSUS DE DÉCOUPAGE AU LASER
(KO) 레이저 스크라이빙 공정의 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물
Abrégé : front page image
(EN) The present invention provides a coating agent composition for wafer protection, the composition comprising: 5-50 parts by weight of polyurethane, a vinylpyrrolidone/methacrylamide/vinylimidazole copolymer, a vinylpyrrolidone/vinylalcohol copolymer, poly(vinylacetate-CO-crotonic acid), an aminoethylpropandiol-acrylate copolymer, or a mixture thereof; 1-10 parts by weight of a surfactant; 5-30 parts by weight of a hydrolyzed silane compound; 10-30 parts by weight of a water-dispersible polyurethane dispersant; 3-10 parts by weight of nano ceramic particles; 3-10 parts by weight of a binder; and 50-150 parts by weight of a solvent, relative to 100 parts by weight of a highly soluble polymer resin. The coating agent composition for wafer protection according to the present invention has effects of: preventing a wafer from being damaged in laser scribing through easy attachment and enhanced adhesion to a surface of the wafer; and improving cleaning ability.
(FR) La présente invention concerne une composition d'agent de revêtement pour la protection des tranches de silicium, la composition comprenant : de 5 à 50 parties en poids de polyuréthane, d'un copolymère de vinylpyrrolidone/méthacrylamide/vinylimidazole, d'un copolymère de vinylpyrrolidone/alcool vinylique, d'un copolymère de poly(acétate de vinyle-CO-acide crotonique), d'un copolymère d'aminoéthylpropanediol-acrylate ou d'un mélange de ceux-ci ; de 1 à 10 parties en poids de tensioactif ; de 5 à 30 parties en poids d'un composé de silane hydrolysé ; de 10 à 30 parties en poids de dispersant polyuréthane doué de dispersion dans l'eau ; de 3 à 10 parties en poids de nanoparticules de céramique ; de 3 à 10 parties en poids de liant ; et de 50 à 150 parties en poids de solvant, pour 100 parties en poids de résine polymère très soluble. La composition d'agent de revêtement pour la protection des tranches de silicium selon la présente invention a les effets suivants : protection d'une tranche de silicium contre les dommages susceptibles d'être occasionnés lors d'une découpe laser, d'application facile et d'adhérence améliorée à une surface de la tranche de silicium ; et amélioration de l'aptitude au nettoyage.
(KO) 본 발명은 고수용성 고분자 수지 100중량부를 기준으로, 폴리우레탄, 비닐피롤리돈/메타아크릴아마이드/비닐이미다졸 공중합체, 비닐피롤리돈/비닐알코올 공중합체, 폴리(비닐아세테이트-CO-크로토닉산), 아미노에틸프로판디올-아크릴레이트 공중합체 또는 이들의 혼합물 5 내지 50중량부; 계면활성제 1 내지 10중량부; 가수분해 실란화합물 5 내지 30중량부; 수분산 폴리우레탄 분산제 10 내지 30중량부; 나노세라믹입자 3 내지 10중량부; 바인더 3 내지 10중량부; 및 용매 50 내지 150중량부를 포함하는 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물을 제공한다. 본 발명에 따른 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물은 웨이퍼 표면에 용이하게 접착하는 동시에, 밀착성을 향상시켜 레이져 스크라이빙 시 웨이퍼가 손상되는 것을 방지하고, 세정성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)