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1. (WO2018139109) COMPOSITION SENSIBLE À UN RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS
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N° de publication : WO/2018/139109 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/045386
Date de publication : 02.08.2018 Date de dépôt international : 18.12.2017
CIB :
G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
038
Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
Déposants :
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
Inventeurs :
峯岸 信也 MINEGISHI Shinya; JP
白谷 宗大 SHIRATANI Motohiro; JP
中川 恭志 NAKAGAWA Hisashi; JP
Mandataire :
天野 一規 AMANO Kazunori; JP
Données relatives à la priorité :
2017-01218126.01.2017JP
Titre (EN) RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD
(FR) COMPOSITION SENSIBLE À UN RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS
(JA) 感放射線性組成物及びパターン形成方法
Abrégé :
(EN) The present invention is a radiation-sensitive composition containing: a metal oxide including a first structural unit represented by formula (1), formula (2), or a combination of formulae (1) and (2) and a second structural unit represented by formula (3); and a solvent. In formulae (1) to (3), M signifies germanium, tin, or lead independently in the individual formulae. R1, R2, and R3 each signify a monovalent organic group bonded to M via a carbon atom and having a carbon number of 1-40, independently of each other. The content of the first structural unit in relation to all the structural units constituting the metal oxide is preferably not less than 50 mol%.
(FR) La présente invention concerne une composition sensible à un rayonnement contenant : un oxyde métallique comprenant un premier motif structural représenté par la formule (1), la formule (2) ou une combinaison des formules (1) et (2) et un second motif structural représenté par la formule (3) ; et un solvant. Dans les formules (1) à (3), M représente le germanium, l'étain ou le plomb indépendamment dans les formules individuelles. R1, R2 et R3 représentent chacun un groupe organique monovalent lié à M par l'intermédiaire d'un atome de carbone et ayant un nombre de carbones de 1 à 40, indépendamment les uns des autres. Le contenu du premier motif structural par rapport à tous les motifs structuraux constituant l'oxyde métallique est de préférence supérieur ou égal à 50 % en moles.
(JA) 本発明は、下記式(1)、下記式(2)又はこれらの組み合わせで表される第1構造単位、及び下記式(3)で表される第2構造単位を有する金属酸化物と、溶媒とを含有する感放射線性組成物である。下記式(1)~(3)中、Mは、それぞれ独立して、ゲルマニウム、スズ又は鉛である。R、R及びRは、それぞれ独立して、Mに炭素原子で結合する炭素数1~40の1価の有機基である。上記金属酸化物を構成する全構造単位に対する上記第1構造単位の含有割合としては50モル%以上が好ましい。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)