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1. (WO2018139072) COMPOSITION D'AGENT DE GRAVURE ÉLECTROLYTIQUE, PROCÉDÉ DE GRAVURE ÉLECTROLYTIQUE, SUBSTRAT GRAVÉ PAR ÉLECTROLYSE, MATÉRIAU D'ÉLECTRODE POUR CONDENSATEURS ÉLECTROLYTIQUES EN ALUMINIUM ET CONDENSATEUR
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N° de publication : WO/2018/139072 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/044281
Date de publication : 02.08.2018 Date de dépôt international : 11.12.2017
CIB :
C25F 3/04 (2006.01) ,H01G 9/04 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
F
PROCÉDÉS POUR LE TRAITEMENT D'OBJETS PAR ENLÈVEMENT ÉLECTROLYTIQUE DE MATIÈRE; APPAREILLAGES À CET EFFET
3
Attaque de surface ou polissage électrolytique
02
Attaque de surface
04
des métaux légers
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
G
CONDENSATEURS; CONDENSATEURS, REDRESSEURS, DÉTECTEURS, DISPOSITIFS DE COMMUTATION, DISPOSITIFS PHOTOSENSIBLES OU SENSIBLES À LA TEMPÉRATURE, DU TYPE ÉLECTROLYTIQUE
9
Condensateurs électrolytiques, redresseurs électrolytiques, détecteurs électrolytiques, dispositifs de commutation électrolytiques, dispositifs électrolytiques photosensibles ou sensibles à la température; Procédés pour leur fabrication
004
Détails
04
Electrodes
Déposants :
株式会社ADEKA ADEKA CORPORATION [JP/JP]; 東京都荒川区東尾久7丁目2番35号 2-35, Higashiogu 7-chome, Arakawa-ku, Tokyo 1168554, JP
Inventeurs :
鈴木 陽介 SUZUKI Yousuke; JP
Mandataire :
近藤 利英子 KONDO Rieko; JP
菅野 重慶 SUGANO Shigeyoshi; JP
竹山 圭太 TAKEYAMA Keita; JP
岡田 薫 OKADA Kaoru; JP
Données relatives à la priorité :
2017-01186526.01.2017JP
Titre (EN) ELECTROLYTIC ETCHANT COMPOSITION, ELECTROLYTIC ETCHING METHOD, ELECTROLYTICALLY ETCHED SUBSTRATE, ELECTRODE MATERIAL FOR ALUMINUM ELECTROLYTIC CAPACITORS, AND CAPACITOR
(FR) COMPOSITION D'AGENT DE GRAVURE ÉLECTROLYTIQUE, PROCÉDÉ DE GRAVURE ÉLECTROLYTIQUE, SUBSTRAT GRAVÉ PAR ÉLECTROLYSE, MATÉRIAU D'ÉLECTRODE POUR CONDENSATEURS ÉLECTROLYTIQUES EN ALUMINIUM ET CONDENSATEUR
(JA) 電解エッチング液組成物、電解エッチング方法、電解エッチングされた基材、アルミニウム電解コンデンサ用電極材、及びコンデンサ
Abrégé :
(EN) Provided is an electrolytic etchant composition which is capable of producing a substrate containing aluminum, said substrate having high electrostatic capacity and being suitable as an electrode material for aluminum electrolytic capacitors. The present invention is an electrolytic etchant composition which is used for the purpose of forming a pit in a substrate that contains aluminum by performing an electrochemical etching. This electrolytic etchant composition contains 10-70% by mass in total of at least one acid selected from the group consisting of acetic acid and lactic acid, 0.1-10% by mass of aluminum chloride, and water.
(FR) L'invention concerne une composition d'agent de gravure électrolytique qui est en mesure de produire un substrat contenant de l'aluminium, ledit substrat présentant une capacité électrostatique élevée et étant approprié comme matériau d'électrode pour des condensateurs électrolytiques en aluminium. La présente invention concerne une composition d'agent de gravure électrolytique qui est utilisée dans le but de former un creux dans un substrat qui contient de l'aluminium par réalisation d'une gravure électrochimique. Cette composition d'agent de gravure électrolytique contient 10-70 % en masse, au total, d'au moins un acide choisi dans le groupe constitué par l'acide acétique et l'acide lactique, 0,1-10 % en masse de chlorure d'aluminium et de l'eau.
(JA) アルミニウム電解コンデンサ用電極材料として好適な、静電容量の大きい、アルミニウムを含有する基材を製造することが可能な電解エッチング液組成物を提供する。アルミニウムを含有する基材に電気化学的エッチングを行うことによりピットを形成するために用いられる電解エッチング液組成物である。この電解エッチング液組成物は、酢酸及び乳酸からなる群から選ばれる少なくとも1種を合計10~70質量%、塩化アルミニウムを0.1~10質量%、並びに水を含有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)