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1. (WO2018138810) MOTIF CONDUCTEUR, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF CONDUCTEUR, ET PROCÉDÉ DE RÉPARATION DE DÉCONNEXION
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N° de publication : WO/2018/138810 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/002590
Date de publication : 02.08.2018 Date de dépôt international : 25.01.2017
CIB :
H05K 3/38 (2006.01) ,H05K 3/10 (2006.01) ,H05K 3/22 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
38
Amélioration de l'adhérence entre le substrat isolant et le métal
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
10
dans lesquels le matériau conducteur est appliqué au support isolant de manière à former le parcours conducteur recherché
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
22
Traitement secondaire des circuits imprimés
Déposants :
堺ディスプレイプロダクト株式会社 SAKAI DISPLAY PRODUCTS CORPORATION [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumicho, Sakai-ku, Sakai-shi, Osaka 5908522, JP
Inventeurs :
渡辺 希望 WATANABE, Kibo; --
Mandataire :
奥田 誠司 OKUDA Seiji; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) CONDUCTIVE PATTERN, METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, AND DISCONNECTION REPAIRING METHOD
(FR) MOTIF CONDUCTEUR, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF CONDUCTEUR, ET PROCÉDÉ DE RÉPARATION DE DÉCONNEXION
(JA) 導電パターン、導電パターンの形成方法、および断線修復方法
Abrégé :
(EN) The conductive pattern according to an embodiment of the present invention is formed on the surface of an inorganic insulating body (12), and has a lower layer (16A) that is in direct contact with the surface of the inorganic insulating body (12), and a metal nanoparticle sintered body-containing layer (18A) formed on the lower layer (16A). The lower layer (16A) and the metal nanoparticle sintered body-containing layer (18A) are formed using, for instance, an ultrafine inkjet processing device.
(FR) Le motif conducteur selon un mode de réalisation de la présente invention est formé sur la surface d'un corps isolant inorganique (12), et a une couche inférieure (16A) qui est en contact direct avec la surface du corps isolant inorganique (12), et une couche contenant un corps fritté de nanoparticules métalliques (18A) formée sur la couche inférieure (16A). La couche inférieure (16A) et la couche contenant un corps fritté de nanoparticules métalliques (18A) sont formées à l'aide, par exemple, d'un dispositif de traitement à jet d'encre ultrafin.
(JA) 本発明による実施形態の導電パターンは、無機絶縁体(12)の表面に形成された導電パターンであって、無機絶縁体(12)の表面上に直接接する下層(16A)と、下層(16A)上に形成された金属ナノ粒子焼結体含有層(18A)とを有する。下層(16A)および金属ナノ粒子焼結体含有層(18A)は、例えば、超微細インクジェット加工装置を用いて形成される。
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)