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1. (WO2018137676) DISPOSITIF OBTURATEUR ET PROCÉDÉ DE COMMANDE ASSOCIÉ, ALIGNEUR DE MASQUE ET PROCÉDÉ DE COMMANDE DE DOSE D'EXPOSITION ASSOCIÉ
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N° de publication : WO/2018/137676 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/074089
Date de publication : 02.08.2018 Date de dépôt international : 25.01.2018
CIB :
G03B 9/08 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT(GROUP) CO., LTD.[CN/CN]; 1525 Zhangdong Road, Zhangjiang High-Tech Park Shanghai 201203, CN
Inventeurs : JIANG, Zhiyong; CN
ZHANG, Fuping; CN
WANG, Yanfei; CN
Mandataire : SHANGHAI SAVVY INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; Room 341, Building 1, 789 West Tianshan Road, Changning District Shanghai 200335, CN
Données relatives à la priorité :
201710061013.325.01.2017CN
Titre (EN) SHUTTER DEVICE AND CONTROL METHOD THEREFOR, MASK ALIGNER AND EXPOSURE DOSE CONTROL METHOD THEREFOR
(FR) DISPOSITIF OBTURATEUR ET PROCÉDÉ DE COMMANDE ASSOCIÉ, ALIGNEUR DE MASQUE ET PROCÉDÉ DE COMMANDE DE DOSE D'EXPOSITION ASSOCIÉ
(ZH) 快门装置及其控制方法、光刻机及其曝光剂量控制方法
Abrégé : front page image
(EN) Disclosed are a shutter device and a control method therefor, a mask aligner and an exposure dose control method therefor. The shutter device comprises: a light blocking unit and a voice coil electric motor (100), wherein the voice coil electric motor (100) comprises a permanent magnet module (110), a drive guide rail module (120) and coil structures (130). The coil structures (130) are arranged on the drive guide rail module (120). The permanent magnet module (110) generates a magnetic field inside the drive guide rail module (120). The light blocking unit comprises two shutter blades (200). The shutter blades (200) are connected to the coil structures (130). After being energised, the coil structures (130) generate magnetic fields the opposite of or the same as the magnetic field in the drive guide rail module (120), so that the coil structures (130) move forwards or reversely along the drive guide rail module (120) to drive the opening or closing of the two shutter blades (200). By means of directly connecting the coil structures (130) of the voice coil electric motor (100) to the light blocking unit, the opening and closing time of the shutter blades (200) is greatly reduced, thus increasing a small-dose exposure yield and increasing the light source utilisation rate in unit time.
(FR) L'invention concerne un dispositif obturateur et un procédé de commande associé, un aligneur de masque et un procédé de commande de dose d'exposition associé. Le dispositif obturateur comprend : une unité de blocage de lumière et un moteur électrique à bobine acoustique (100), le moteur électrique à bobine acoustique (100) comprenant un module aimant permanent (110), un module rail de guidage d'entraînement (120) et des structures de bobine (130). Les structures de bobine (130) sont disposées sur le module rail de guidage d'entraînement (120). Le module aimant permanent (110) génère un champ magnétique à l'intérieur du module rail de guidage d'entraînement (120). L'unité de blocage de lumière comprend deux lames d'obturateur (200). Les lames d'obturateur (200) sont reliées aux structures de bobine (130). Après avoir été excitées, les structures de bobine (130) génèrent des champs magnétiques contraires au champ magnétique créé dans le module rail de guidage d'entraînement (120), ou similaires à ce dernier, de sorte que les structures de bobine (130) se déplacent vers l'avant ou vers l'arrière le long du module rail de guidage d'entraînement (120) pour entraîner l'ouverture ou la fermeture des deux lames d'obturateur (200). La connexion directe des structures de bobine (130) du moteur électrique à bobine acoustique (100) à l'unité de blocage de lumière permet de fortement réduire le temps d'ouverture et de fermeture des lames d'obturateur (200), ce qui permet d'augmenter le rendement d'exposition de faible dose et d'augmenter le taux d'utilisation de la source de lumière par unité de temps.
(ZH) 一种快门装置及其控制方法、光刻机及其曝光剂量控制方法。快门装置包括:挡光单元和音圈电机(100),其中,音圈电机(100)包括永磁模块(110)、驱动导轨模块(120)和线圈结构(130)。线圈结构(130)设置在驱动导轨模块(120)上,永磁模块(110)在驱动导轨模块(120)内部产生磁场。挡光单元包括两个快门叶片(200),快门叶片(200)与线圈结构(130)连接。线圈结构(130)通电后产生与驱动导轨模块(120)磁场方向相反或相同的磁场,使线圈结构(130)沿驱动导轨模块(120)正向或反向运动,带动两个快门叶片(200)打开或关闭。通过使音圈电机(100)的线圈结构(130)直接与挡光单元连接,大大减小了快门叶片(200)的开闭时间,进而提高了小剂量曝光产率,提高了单位时间内的光源利用率。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)