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1. (WO2018128079) PROCÉDÉ DE GRAVURE SÈCHE ET CONTENANT REMPLI DE β-DICÉTONE

Pub. No.:    WO/2018/128079    International Application No.:    PCT/JP2017/045709
Publication Date: Fri Jul 13 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Dec 21 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 21/3065
C23F 1/12
C23F 4/00
H01L 21/302
Applicants: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
セントラル硝子株式会社
Inventors: YAMAUCHI, Kunihiro
山内 邦裕
MASUDA, Takashi
増田 隆司
YAO, Akifumi
八尾 章史
Title: PROCÉDÉ DE GRAVURE SÈCHE ET CONTENANT REMPLI DE β-DICÉTONE
Abstract:
L'invention concerne un procédé de gravure sèche permettant de graver un film métallique sur un substrat à l'aide d'un gaz de gravure contenant un gaz additif et une β-dicétone, ledit procédé étant caractérisé en ce que le film métallique comprend un élément métallique capable de former un complexe avec la β-dicétone, et la quantité d'eau, rapportée à la β-dicétone, dans le gaz de gravure est inférieure ou égale à 30 ppm en masse. De plus, la β-dicétone à utiliser pour la gravure sèche provient, de préférence, d'un récipient étanche à l'air rempli de β-dicétone, qui est obtenu en remplissant de β-dicétone un récipient étanche à l'air, la teneur en eau, rapportée à la β-dicétone, dans le récipient étanche à l'air étant de 15 ppm en poids. Ce procédé permet de graver un film métallique tout en empêchant les variations de vitesse de gravure, de l'utilisation initiale à l'utilisation finale du récipient rempli.