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1. (WO2018128008) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2018/128008    International Application No.:    PCT/JP2017/040563
Publication Date: Fri Jul 13 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Nov 11 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 21/304
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
株式会社SCREENホールディングス
Inventors: HANAWA Yosuke
塙 洋祐
UEDA Dai
上田 大
SASAKI Yuta
佐々木 悠太
Title: PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Abstract:
La présente invention concerne un procédé de traitement de substrat et un dispositif de traitement de substrat qui permettent de réduire l'affaissement de motifs sur un substrat. Ce procédé de traitement de substrat est caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : la fourniture (S13), sur une surface de formation de motifs d'un substrat (W), d'un fluide de traitement contenant un matériau sublimable à l'état fondu; la coagulation (S14) du fluide de traitement sur la surface de formation de motifs pour former un corps coagulé (63); la sublimation (S15) du corps coagulé (63) pour l'éliminer de la surface de formation de motifs; l'élimination en plusieurs étapes de substances organiques (S16, S17) qui permet d'éliminer des substances organiques déposées sur une interface de sublimation lorsque le corps coagulé (63) est sublimé, l'élimination des substances organiques (S16, S17) étant effectuée de façon à coïncider avec l'étape de sublimation (S15).