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1. (WO2018126685) OUTIL DE MESURE D'INTERVALLE DE PULVÉRISATION ET DISPOSITIF DE PULVÉRISATION AU MAGNÉTRON
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N° de publication : WO/2018/126685 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/096726
Date de publication : 12.07.2018 Date de dépôt international : 10.08.2017
CIB :
G01B 5/14 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.[CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
ORDOS YUANSHENG OPTOELECTRONICS CO., LTD.[CN/CN]; Ordos Equipment Manufacturing Base, Dongsheng District Ordos, Inner Mongolia 017020, CN
Inventeurs : KANG, Yingnan; CN
Mandataire : DRAGON INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; 10F, Bldg. 2, Maples International Center No. 32 Xizhimen North Street, Haidian District Beijing 100082, CN
Données relatives à la priorité :
201720004344.903.01.2017CN
Titre (EN) SPUTTERING GAP MEASURING TOOL AND MAGNETRON SPUTTERING DEVICE
(FR) OUTIL DE MESURE D'INTERVALLE DE PULVÉRISATION ET DISPOSITIF DE PULVÉRISATION AU MAGNÉTRON
(ZH) 溅射缝隙测量工具、磁控溅射设备
Abrégé : front page image
(EN) A sputtering gap measuring tool for a magnetron sputtering device (200). The magnetron sputtering device (200) comprises a base station (10) used for bearing substrates; and a movable plate (20) provided at the first side of base station (10) and parallel to the base station (10). The distance between the base station (10) and the movable plate (20) is a sputtering gap. The sputtering gap measuring tool comprises : a horizontal test platform (1) provided on the base station (10) for measuring, when the horizontal test platform (1) is located at a first position, a first edge of the horizontal test platform (1) being flush with the edge of a first side of the base station (10); a first moving structure used for controlling the horizontal test platform (1) to move towards the movable plate (20), when the horizontal test platform (1) moves to a second position, the horizontal test platform (1) being in contact with the movable plate (20); and a distance measuring structure used for measuring the moving distance of the horizontal test platform (1) from the first position to the second position. Also involved is a magnetron sputtering device (200).
(FR) L'invention concerne un outil de mesure d'intervalle de pulvérisation pour un dispositif de pulvérisation au magnétron (200). Le dispositif de pulvérisation au magnétron (200) comprend un poste de base (10) servant à supporter des substrats; et une plaque mobile (20) disposée sur le premier côté du poste de base (10) et parallèle au poste de base (10). La distance entre le poste de base (10) et la plaque mobile (20) est un espace de pulvérisation. L'outil de mesure d'intervalle de pulvérisation comprend : une plate-forme de test horizontale (1) disposée sur le poste de base (10) pour mesurer, lorsque la plate-forme de test horizontale (1) est située dans une première position, un premier bord de la plate-forme de test horizontale (1) aligné avec le bord d'un premier côté du poste de base (10); une première structure mobile servant à commander la plate-forme de test horizontale (1) de sorte qu'elle se déplace vers la plaque mobile (20), lorsque la plate-forme de test horizontale (1) se déplace vers une seconde position, la plate-forme de test horizontale (1) étant en contact avec la plaque mobile (20); et une structure de mesure de distance servant à mesurer la distance de déplacement de la plate-forme de test horizontale (1) de la première position à la seconde position. L'invention concerne également un dispositif de pulvérisation au magnétron (200).
(ZH) 一种溅射缝隙测量工具,用于磁控溅射设备(200),磁控溅射设备(200)包括用于承载基板的基台(10),和设置于基台(10)第一侧的、与基台(10)平行设置的活动板(20),基台(10)与活动板(20)之间的距离为溅射缝隙,溅射缝隙测量工具包括:水平测试平台(1),进行测量时设置于基台(10)上,且水平测试平台(1)位于第一位置时,水平测试平台(1)的第一边缘与基台(10)的第一侧的边缘平齐;第一移动结构,用于控制水平测试平台(1)向靠近活动板(20)的方向移动,在水平测试平台(1)移动到第二位置时,水平测试平台(1)与活动板(20)接触;距离测量结构,用于测量水平测试平台(1)从第一位置到第二位置的移动距离。本公开还涉及一种磁控溅射设备(200)。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)