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1. (WO2018125905) COMPOSITIONS DE POLISSAGE

Pub. No.:    WO/2018/125905    International Application No.:    PCT/US2017/068507
Publication Date: Fri Jul 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Dec 28 00:59:59 CET 2017
IPC: C09G 1/02
Applicants: FUJIFILM PLANAR SOLUTIONS, LLC
Inventors: MCDONOUGH, James
Title: COMPOSITIONS DE POLISSAGE
Abstract:
La présente invention concerne des compositions de polissage chimico-mécanique (CMP) qui permettent d'obtenir un bombage minimal, à des niveaux réduits de réducteur de bombage (DR) par comparaison avec des compositions de CMP connues. Les compositions de l'invention comprennent un réducteur de tension de surface dynamique (DSTR) qui permet des niveaux inférieurs de réducteur de bombage dans les compositions. En effet, les compositions de l'invention permettent des niveaux inférieurs de réducteur de bombage pour obtenir le même bombage que des compositions connues ayant des niveaux supérieurs de réducteur de bombage. Des effets délétères de niveaux élevés de DR sont ainsi évités ou réduits au minimum lors de l'emploi des compositions de l'invention.