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1. (WO2018125052) DÉPÔT SÉLECTIF SUR CERTAINES ZONES DE COUCHES MÉTALLIQUES À PARTIR DE PRÉCURSEURS DE COMPLEXE MÉTALLIQUE D'HÉTÉRO-PENTADIÉNYLE

Pub. No.:    WO/2018/125052    International Application No.:    PCT/US2016/068724
Publication Date: Fri Jul 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Dec 28 00:59:59 CET 2016
IPC: H01L 21/768
H01L 21/02
Applicants: INTEL CORPORATION
Inventors: MAHDI, Tayseer
ROMERO, Patricio E.
Title: DÉPÔT SÉLECTIF SUR CERTAINES ZONES DE COUCHES MÉTALLIQUES À PARTIR DE PRÉCURSEURS DE COMPLEXE MÉTALLIQUE D'HÉTÉRO-PENTADIÉNYLE
Abstract:
Des couches métalliques comprenant un métal M sont sélectivement déposées sur des surfaces métalliques par dépôt chimique en phase vapeur ou dépôt de couche atomique à partir d'un précurseur de complexe métallique d'hétéro-pentadiényle de formule (I) où L est un ligand; n est 1, 2 ou 3; X est NR1, S(O)(O), S(O)(R1)(R1), S(R1)(R1), P(O)(R1), P(R1)(R1)(R1) ou O; chaque R représente indépendamment un atome d'hydrogène ou un alkyle en C1 à C6 à chaîne droite ou ramifiée; chaque R1 représente indépendamment un atome d'hydrogène ou un alkyle en C1 à C6 à chaîne droite ou ramifiée; et M est un métal de transition tardif de première rangée ou un métal du groupe du platine.