WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Options
Langue d'interrogation
Stemming/Racinisation
Trier par:
Nombre de réponses par page
Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018124730) DISPOSITIF DE PRODUCTION DE POLYSILICIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/124730 N° de la demande internationale : PCT/KR2017/015544
Date de publication : 05.07.2018 Date de dépôt international : 27.12.2017
CIB :
C01B 33/027 (2006.01) ,C01B 33/035 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
B
ÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
33
Silicium; Ses composés
02
Silicium
021
Préparation
027
par décomposition ou réduction de composés de silicium gazeux ou vaporisés autres que la silice ou un matériau contenant de la silice
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
B
ÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
33
Silicium; Ses composés
02
Silicium
021
Préparation
027
par décomposition ou réduction de composés de silicium gazeux ou vaporisés autres que la silice ou un matériau contenant de la silice
035
par décomposition ou réduction de composés de silicium gazeux ou vaporisés en présence de filaments chauffés de silicium, de carbone ou d'un métal réfractaire, p.ex. de tantale ou de tungstène, ou en présence de tiges de silicium chauffées sur lesquelles le silicium formé se dépose avec obtention d'une tige de silicium, p.ex. procédé Siemens
Déposants : HANWHA CHEMICAL CORPORATION[KR/KR]; 86, Cheonggyecheon-ro, Jung-gu, Seoul 04541, KR
Inventeurs : LEE, Hee Dong; KR
KIM, Ji Ho; KR
PARK, Sung Eun; KR
JEON, Hyo Jin; KR
Mandataire : YOU ME PATENT AND LAW FIRM; 115 Teheran-ro, Gangnam-gu, Seoul 06134, KR
Données relatives à la priorité :
10-2016-018292029.12.2016KR
Titre (EN) POLYSILICON PRODUCTION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE PRODUCTION DE POLYSILICIUM
(KO) 폴리실리콘 제조 장치
Abrégé :
(EN) A polysilicon production device according to an embodiment of the present invention comprises: a reactor for performing a polysilicon production process by a chemical vapor deposition (CVD) method by introducing a reaction gas; and a slit-type nozzle which is installed in the reactor and sprays a gas into the reactor to prevent the adsorption of fine silicon powder generated during the process.
(FR) Un dispositif de production de polysilicium selon un mode de réalisation de la présente invention comprend : un réacteur pour réaliser un procédé de production de polysilicium par une méthode de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) par introduction d'un gaz de réaction; et une buse de type fente qui est installée dans le réacteur et pulvérise un gaz dans le réacteur pour empêcher l'adsorption de poudre de silicium fine générée pendant le procédé.
(KO) 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리실리콘 제조 장치는, 반응기체를 투입하여 CVD(chemical vapor deposition) 방식으로 폴리실리콘 제조 공정을 수행하는 반응기, 및 공정 중에 발생되는 실리콘 미분의 흡착을 방지하기 위하여, 상기 반응기에 설치되어 상기 반응기 내부로 기체를 분사하는 슬릿형 노즐을 포함한다.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)