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1. (WO2018124676) DISPOSITIF À PLASMA UTILISÉ DANS UN ENVIRONNEMENT HUMIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/124676 N° de la demande internationale : PCT/KR2017/015437
Date de publication : 05.07.2018 Date de dépôt international : 26.12.2017
CIB :
H05H 1/46 (2006.01)
Déposants : KOREA BASIC SCIENCE INSTITUTE[KR/KR]; 169-148, Gwahak-ro Yuseong-gu Daejeon 34133, KR
Inventeurs : JEON, Hyeong Won; KR
RYU, Seung Min; KR
EOM, Sang Heum; KR
YOON, Jung Woo; KR
KIM, Seong Bong; KR
YOO, Suk Jae; KR
Mandataire : NAM, Gun Pil; KR
CHA, Sang Yun; KR
PARK, Jong Soo; KR
Données relatives à la priorité :
10-2016-017886626.12.2016KR
Titre (EN) PLASMA DEVICE USED IN HUMID ENVIRONMENT
(FR) DISPOSITIF À PLASMA UTILISÉ DANS UN ENVIRONNEMENT HUMIDE
(KO) 다습 환경에서 이용되는 플라즈마 장치
Abrégé : front page image
(EN) A plasma device used in a humid environment is disclosed. A plasma device used in a humid environment comprises: a plate-shaped surface discharge source comprising an insulating layer, a first electrode, which is placed on one side of the insulating layer and is plate-shaped, and one or more second electrodes which are placed on the other side of the insulating layer and are provided in a rod shape; a power supply apparatus for applying a high voltage between the first electrode and the second electrodes for discharge between a dielectric layer and the second electrodes; and an electrode heating means for heating the second electrodes such that heat is generated in the second electrodes, wherein, when the high voltage is applied between the first electrode and the second electrodes, a plasma generation area forms around the second electrodes, and the electrode heating means heats the second electrodes before the formation of the plasma generation area.
(FR) L'invention concerne un dispositif à plasma utilisé dans un environnement humide. Le dispositif à plasma utilisé dans un environnement humide comprend : une source de décharge superficielle en forme de plaque comprenant une couche isolante, une première électrode qui est placée d'un côté de la couche isolante et est en forme de plaque, et une ou plusieurs secondes électrodes qui sont placées de l'autre côté de la couche isolante et sont fournies en forme de tige ; un appareil d'alimentation électrique pour appliquer une haute tension entre la première électrode et les secondes électrodes en vue d'une décharge entre une couche diélectrique et les secondes électrodes ; et un moyen de chauffage d'électrode pour chauffer les secondes électrodes de manière à générer de la chaleur dans les secondes électrodes. Lorsque la haute tension est appliquée entre la première électrode et les secondes électrodes, une zone de génération de plasma se forme autour des secondes électrodes, et le moyen de chauffage d'électrode chauffe les secondes électrodes avant la formation de la zone de génération de plasma.
(KO) 다습 환경에서 이용되는 플라즈마 장치가 개시된다. 상기 다습 환경에서 이용되는 플라즈마 장치는 절연층, 상기 절연층의 일면에 놓이는 판형의 제1 전극, 상기 절연층의 타면에 놓이고 막대 형상으로 구비되는 하나 이상의 제2 전극을 포함하는 판형 면방전 소스; 상기 유전체층 및 제2 전극 간의 방전을 위해 상기 제1 전극 및 제2 전극 사이에 고전압을 인가하는 전원공급장치; 및 상기 제2 전극에 열이 발생되도록 상기 제2 전극을 가열하기 위한 전극가열수단을 포함하고, 상기 제1 전극 및 제2 전극 사이에 고전압이 인가되면 상기 제2 전극 주변에 플라즈마 발생 영역이 형성되고, 상기 전극가열수단은 상기 플라즈마 발생 영역의 형성 전에 상기 제2 전극을 가열하도록 구성되는 것을 특징으로 한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)