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1. (WO2018124229) COMPOSITION POUR POLISSAGE, ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE

Pub. No.:    WO/2018/124229    International Application No.:    PCT/JP2017/047085
Publication Date: Fri Jul 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Dec 28 00:59:59 CET 2017
IPC: C09K 3/14
B24B 37/00
C09G 1/02
H01L 21/304
Applicants: NITTA HAAS INCORPORATED
ニッタ・ハース株式会社
Inventors: SUGITA, Noriaki
杉田 規章
MATSUSHITA, Takayuki
松下 隆幸
Title: COMPOSITION POUR POLISSAGE, ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
Abstract:
L’invention fournit une composition pour polissage qui permet de réduire davantage les défauts microscopiques et le trouble d’une tranche après polissage. Cette composition pour polissage contient des particules de silice, un composé basique et une polyglycérine, le rapport massique de silice par rapport à la polyglycérine étant inférieur ou égal à 0,9. Le composé basique consiste en au moins un élément choisi parmi un hydroxyde de métal alcalin, un sel de métal alcalin, un ammoniac, une amine, un sel d’ammonium et des hydroxydes d’ammonium quaternaire. De préférence, la composition pour polissage contient en outre un polyol consistant en un tensioactif non ionique.