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1. (WO2018123658) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ POLYSILANE, COMPOSITION, FILM ET SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2018/123658    International Application No.:    PCT/JP2017/045124
Publication Date: Fri Jul 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Dec 16 00:59:59 CET 2017
IPC: C08G 77/60
H01L 21/312
C07B 61/00
Applicants: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
東京応化工業株式会社
Inventors: CHISAKA Hiroki
千坂 博樹
NODA Kunihiro
野田 国宏
SHIOTA Dai
塩田 大
Title: PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ POLYSILANE, COMPOSITION, FILM ET SUBSTRAT
Abstract:
L'invention concerne un procédé de production d'un composé polysilane comprenant peu d'un métal résiduel (tel que Zn, Cu et Fe), une composition contenant le composé polysilane, un film et un substrat. Elle porte sur un procédé de production d'un composé polysilane ayant une masse moléculaire moyenne en masse de 5000 ou moins, le procédé comprenant la réaction d'un composé halogénosilane en présence d'un complexe organométallique représenté par la formule générale (A1) et de magnésium. (A1) MpLp/q (Dans la formule générale (A1), Mp représente un cation métallique de valence p, L représente un ligand organique de valence q, et p et q représentent chacun d'une manière indépendante un entier valant 1 ou plus).