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1. (WO2018123537) COMPOSITION SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET OXYDE MÉTALLIQUE

Pub. No.:    WO/2018/123537    International Application No.:    PCT/JP2017/044367
Publication Date: Fri Jul 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Dec 12 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 7/038
Applicants: JSR CORPORATION
JSR株式会社
Inventors: MINEGISHI Shinya
峯岸 信也
SHIRATANI Motohiro
白谷 宗大
ASANO Yusuke
浅野 裕介
NAKAGAWA Hisashi
中川 恭志
NARUOKA Takehiko
成岡 岳彦
Title: COMPOSITION SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET OXYDE MÉTALLIQUE
Abstract:
L'objet de la présente invention est de fournir une composition sensible au rayonnement qui présente une excellente sensibilité. La présente invention concerne une composition sensible au rayonnement qui contient un oxyde métallique possédant une unité structurale représentée par la formule (1) et un solvant. Dans la formule (1), M représente le germanium, l'étain ou le plomb; et R1 représente un groupe organique monovalent possédant 30 atomes de carbone ou moins, qui contient au moins un groupe choisi parmi des groupes possédant une liaison insaturée et des groupes attracteurs d'électrons, et qui est lié à M au moyen d'un atome de carbone. Il est préférable que le groupe organique monovalent représenté par R1 contienne un groupe possédant une liaison insaturée et que le groupe possédant une liaison insaturée soit au moins un groupe choisi parmi des groupes aromatiques et des groupes contenant une double liaison éthylénique. Il est également préférable que le groupe organique monovalent représenté par R1 contienne un groupe attracteur d'électrons et que le groupe attracteur d'électrons soit au moins un groupe choisi parmi un groupe cyano, un groupe nitro, des groupes alkyles halogénés, -COO- et des groupes cationiques. La teneur en oxyde métallique en termes de teneur en éléments solides est de préférence de 50 % en masse ou plus.