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1. (WO2018123193) DISPOSITIF DE FABRICATION DE LIQUIDE DILUÉ ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE LIQUIDE DILUÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/123193 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/036436
Date de publication : 05.07.2018 Date de dépôt international : 06.10.2017
CIB :
B01F 15/04 (2006.01) ,B01F 1/00 (2006.01) ,B01F 3/08 (2006.01) ,B01F 5/00 (2006.01) ,B01J 4/00 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
F
MÉLANGE, p.ex. DISSOLUTION, ÉMULSION, DISPERSION
15
Accessoires pour mélangeurs
04
Réalisation de proportions prédéterminées de substances à mélanger
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
F
MÉLANGE, p.ex. DISSOLUTION, ÉMULSION, DISPERSION
1
Dissolution
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
F
MÉLANGE, p.ex. DISSOLUTION, ÉMULSION, DISPERSION
3
Mélange, p.ex. dispersion, émulsion, selon les phases à mélanger
08
de liquides avec des liquides; Emulsion
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
F
MÉLANGE, p.ex. DISSOLUTION, ÉMULSION, DISPERSION
5
Mélangeurs à écoulement; Mélangeurs pour matériaux tombants, p.ex. particules solides
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
J
PROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE, CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
4
Dispositifs d'alimentation; Dispositifs de commande d'alimentation ou d'évacuation
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04
les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18
les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du quatrième groupe de la Classification Périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30
Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
302
pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage
304
Traitement mécanique, p.ex. meulage, polissage, coupe
Déposants : ORGANO CORPORATION[JP/JP]; 2-8, Shinsuna 1-chome, Koto-ku, Tokyo 1368631, JP
Inventeurs : YAMASHITA Yukinari; JP
MORINO Shota; JP
YAMANAKA Koji; JP
Mandataire : MIYAZAKI Teruo; JP
OGATA Masaaki; JP
Données relatives à la priorité :
2016-25493828.12.2016JP
2016-25493928.12.2016JP
2016-25494028.12.2016JP
Titre (EN) DEVICE FOR MANUFACTURING DILUTED LIQUID, AND METHOD FOR MANUFACTURING DILUTED LIQUID
(FR) DISPOSITIF DE FABRICATION DE LIQUIDE DILUÉ ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE LIQUIDE DILUÉ
(JA) 希釈液製造装置および希釈液製造方法
Abrégé :
(EN) A device 10 for manufacturing a diluted liquid has: first piping 11 for supplying a first liquid; a first tank 12a for storing a second liquid; second piping 13 that connects the first tank 12 and the first piping 11; a pressure adjustment unit 18 for adjusting the pressure in the first tank 12a, the pressure adjustment unit 18 sending the second liquid inside the first tank 12a via the second piping 13 and supplying the second liquid to the first piping 11; a control unit 20 that adjusts the addition amount of the second liquid to the first liquid by the pressure adjustment unit 18 so that the concentration of the diluted liquid reaches a prescribed concentration on the basis of the flow rate of the first liquid or the diluted liquid flowing in the first piping 11, and the concentration of the diluted liquid; and a second tank 12b connected in series to the first tank 12a, the second tank 12b temporarily storing the second liquid for replenishing the first tank 12a.
(FR) Un dispositif 10 de fabrication d'un liquide dilué a : une première tuyauterie 11 pour fournir un premier liquide; un premier réservoir 12a pour stocker un second liquide; une seconde tuyauterie 13 qui relie le premier réservoir 12 et la première tuyauterie 11 ; une unité de réglage de pression 18 pour ajuster la pression dans le premier réservoir 12a, l'unité de réglage de pression 18 envoyant le second liquide à l'intérieur du premier réservoir 12a par l'intermédiaire de la seconde tuyauterie 13 et fournissant le second liquide à la première tuyauterie 11 ; une unité de contrôle 20 qui ajuste la quantité d'addition du second liquide au premier liquide par l'unité de réglage de pression 18 de telle sorte que la concentration du liquide dilué atteint une concentration prescrite sur la base du débit du premier liquide ou du liquide dilué s'écoulant dans la première tuyauterie 11, et la concentration du liquide dilué; et un second réservoir 12b connecté en série au premier réservoir 12a, le second réservoir 12b stockant temporairement le second liquide pour recharger le premier réservoir 12a.
(JA) 希釈液製造装置10は、第1の液体を供給する第1の配管11と、第2の液体を貯留する第1のタンク12aと、第1のタンク12aと第1の配管11とを接続する第2の配管13と、第1のタンク12a内の圧力を調整する圧力調整部18であって、第1のタンク12a内の第2の液体を第2の配管13を通じて圧送して第1の配管11に供給する圧力調整部18と、第1の配管11内を流れる第1の液体または希釈液の流量と希釈液の濃度との測定値に基づいて、希釈液の濃度が所定の濃度になるように、圧力調整部18による第1の液体への第2の液体の添加量を調整する制御部20と、第1のタンク12aに直列に接続され、第1のタンク12aに補充される第2の液体を一時的に貯留する第2のタンク12bと、を有している。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)