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1. (WO2018122612) PRÉCURSEURS DE ZIRCONIUM, HAFNIUM, TITANE ET DÉPÔT DE FILMS CONTENANT UN MÉTAL DU GROUPE 4 LES UTILISANT

Pub. No.:    WO/2018/122612    International Application No.:    PCT/IB2017/001739
Publication Date: Fri Jul 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Dec 30 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 21/316
C23C 16/18
H01L 21/31
Applicants: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE
KIM, Daehyeon
GATINEAU, Satoko
NOH, Wontae
GATINEAU, Julien
GIRARD, Jean-marc
Inventors: KIM, Daehyeon
GATINEAU, Satoko
NOH, Wontae
GATINEAU, Julien
GIRARD, Jean-marc
Title: PRÉCURSEURS DE ZIRCONIUM, HAFNIUM, TITANE ET DÉPÔT DE FILMS CONTENANT UN MÉTAL DU GROUPE 4 LES UTILISANT
Abstract:
L'invention concerne des compositions filmogènes contenant un métal de transition du groupe 4. Les compositions filmogènes contenant un métal de transition du groupe 4 comprennent des précurseurs de métaux de transition du groupe 4 de formule L2-M-(R)C5R3-[(ER2)2-NR]-, dans laquelle M est Ti, Zr ou Hf lié, selon un mode de liaison η5, au groupe Cp; chaque E est indépendamment C, Si, B ou P; chaque R est indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné en C1 à C4; et chaque L est indépendamment un ligand anionique -1 choisi dans le groupe constitué par NR' 2, OR', Cp, un amidinate, un β-dicétonate ou un céto-iminate, R' étant un H ou un groupe hydrocarboné en C1 à C4 , et les R' adjacents pouvant être liés pour former un cycle hydrocarbyle; à condition qu'au moins un R sur le Cp soit en C1 à C4. L'invention concerne également des procédés de synthèse et d'utilisation des précurseurs décrits, dans le but de déposer des films contenant un métal de transition du groupe 4 sur un ou plusieurs substrats, par le biais de procédés de dépôt en phase vapeur.