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1. (WO2018121965) ALIGNEMENT ASSISTÉ PAR SIMULATION ENTRE UNE IMAGE DE MÉTROLOGIE ET UNE CONCEPTION

Pub. No.:    WO/2018/121965    International Application No.:    PCT/EP2017/081695
Publication Date: Fri Jul 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Dec 07 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 7/20
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
Inventors: WANG, Te-Sheng
Title: ALIGNEMENT ASSISTÉ PAR SIMULATION ENTRE UNE IMAGE DE MÉTROLOGIE ET UNE CONCEPTION
Abstract:
L'invention concerne un procédé consistant : à simuler une image ou des caractéristiques de celle-ci, à l'aide des caractéristiques d'une configuration de conception et d'un processus de formation de motif, à déterminer des écarts entre l'image ou les caractéristiques de celle-ci et la configuration de conception ou des caractéristiques de celle-ci ; à aligner une image de métrologie obtenue à partir d'un substrat à motif et la configuration de conception sur la base des écarts, le substrat à motif comprenant un motif produit à partir de la configuration de conception à l'aide du processus de formation de motif ; et à déterminer un paramètre d'un substrat à motif à partir de l'image de métrologie alignée avec la configuration de conception.