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1. (WO2018121313) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE COMMANDE D'EXPOSITION
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N° de publication : WO/2018/121313 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/116728
Date de publication : 05.07.2018 Date de dépôt international : 17.12.2017
CIB :
H04N 5/235 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
04
TECHNIQUE DE LA COMMUNICATION ÉLECTRIQUE
N
TRANSMISSION D'IMAGES, p.ex. TÉLÉVISION
5
Détails des systèmes de télévision
222
Circuits de studio; Dispositifs de studio; Equipements de studio
225
Caméras de télévision
235
Circuits pour la compensation des variations de la luminance de l'objet
Déposants : ZHEJIANG DAHUA TECHNOLOGY CO., LTD.[CN/CN]; No.1187 Binan Road, Binjiang District Hangzhou, Zhejiang 310053, CN
Inventeurs : ZHOU, Yanfen; CN
PAN, Runfa; CN
LI, Liangcheng; CN
HUANG, Qianfeng; CN
LU, Erli; CN
CHEN, Mingzhu; CN
Mandataire : METIS IP (CHENGDU) LLC; YANG, Yongmei (No. 846 South Tianfu Road) Tianfu Innovation Center Chengdu, Sichuan 610213, CN
Données relatives à la priorité :
201611229065.927.12.2016CN
201710560449.711.07.2017CN
Titre (EN) SYSTEMS AND METHODS FOR EXPOSURE CONTROL
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE COMMANDE D'EXPOSITION
Abrégé :
(EN) The present disclosure relates to systems and methods for exposure control. The systems and methods may obtain a target frame brightness value of the image. The systems and methods may also obtain an exposure mode of the electronic device. The systems and methods may also obtain an exposure table corresponding to the exposure mode. The systems and methods may also determine a target value, corresponding to the target frame brightness value, for each of the one or more exposure parameters based on the exposure table. The systems and methods may also adjust one or more of the at least one lens, the at least one exposure-time controller, and the at least one sensor according to the target values of the one or more exposure parameters.
(FR) La présente invention concerne des systèmes et des procédés de commande d'exposition. Les systèmes et les procédés peuvent obtenir une valeur de luminosité de trame cible de l'image. Les systèmes et les procédés peuvent également obtenir un mode d'exposition du dispositif électronique. Les systèmes et les procédés peuvent également obtenir une table d'exposition correspondant au mode d'exposition. Les systèmes et les procédés peuvent également déterminer une valeur cible, correspondant à la valeur de luminosité de trame cible, pour chacun du ou des paramètre(s) d'exposition sur la base de la table d'exposition. Les systèmes et les procédés peuvent également régler une ou plusieurs lentille(s) parmi la ou les lentille(s), le ou les dispositif(s) de commande de temps d'exposition et le ou les capteur(s) en fonction des valeurs cibles du ou des paramètre(s) d'exposition.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)