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1. (WO2018119959) APPAREIL DE GRAVURE À SEC
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N° de publication : WO/2018/119959 N° de la demande internationale : PCT/CN2016/113297
Date de publication : 05.07.2018 Date de dépôt international : 29.12.2016
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : SHENZHEN ROYOLE TECHNOLOGIES CO., LTD.[CN/CN]; A4-1501, Kexing Science Park, No.15 Keyuan Rd., Science and Technology Park, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518052, CN
Inventeurs : WANG, Xuegang; CN
Mandataire : TSINGYIHUA INTELLECTUAL PROPERTY LLC; Room 301 Trade Building, Zhaolanyuan, Tsinghua University, Qinghuayuan, Haidian District Beijing 100084, CN
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) DRY ETCHING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE GRAVURE À SEC
(ZH) 干蚀刻设备
Abrégé : front page image
(EN) A dry etching apparatus, used to perform etching on a film disposed on a substrate 200. The dry etching apparatus comprises support cylinders 10, pressure sensors 20, and a controller 30. The multiple support cylinders 10 are used to support the substrate 200. The multiple pressure sensors 20 are used to sense pressures applied by the substrate 200 on corresponding support cylinders 10, respectively. The controller 30 is used to process outputs of the pressure sensors 20 to decide whether the substrate 200 is broken. By employing the pressure sensors 20 to detect whether the substrate is broken on the basis of the pressures applied on the corresponding support cylinders 10 by the substrate 200, and employing the controller 30 to timely change an operational state of related apparatus components to prevent the apparatus components in contact with the substrate from being damaged, the present invention improves a service life of the dry etching apparatus.
(FR) L'invention concerne un appareil de gravure à sec, utilisé pour effectuer une gravure sur un film disposé sur un substrat 200. L'appareil de gravure à sec comprend des cylindres de support 10, des capteurs de pression 20 et un dispositif de commande 30. Les multiples cylindres de support 10 sont utilisés pour supporter le substrat 200. Les multiples capteurs de pression 20 sont utilisés pour détecter des pressions appliquées par le substrat 200 sur des cylindres de support 10 correspondants, respectivement. Le dispositif de commande 30 est utilisé pour traiter des sorties des capteurs de pression 20 pour décider si le substrat 200 est cassé. En utilisant les capteurs de pression 20 pour détecter si le substrat est cassé sur la base des pressions appliquées sur les cylindres de support 10 correspondants par le substrat 200, et l'utilisation du dispositif de commande 30 pour modifier en temps opportun un état opérationnel de composants d'appareil associés pour empêcher les composants d'appareil en contact avec le substrat d'être endommagés, la présente invention améliore la durée de vie de l'appareil de gravure à sec.
(ZH) 一种干蚀刻设备,用于对设置在基板200上的膜材进行蚀刻处理,包括支撑柱10、压力传感器20和控制器30。多根支撑柱10用于支撑基板200。多个压力传感器20分别用于感测基板200施加到对应的支撑柱10上的压力。控制器30用于处理压力传感器20的输出以判断基板200是否破碎。压力传感器20能通过基板200施加到对应支撑柱10上的压力有效监测基板是否损坏,并通过控制器30及时改变相关设备元件的工作状态避免与基板接触的设备元件发生损坏,延长了干蚀刻设备的使用寿命。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)