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1. (WO2018110953) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ L'UTILISANT

Pub. No.:    WO/2018/110953    International Application No.:    PCT/KR2017/014585
Publication Date: Fri Jun 22 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Dec 13 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 51/56
H01L 51/00
H01L 21/203
H01L 21/02
H01L 21/66
H01L 21/683
H01L 21/268
H01L 21/687
C23C 14/52
C23C 14/04
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC.
Inventors: CHO, Saeng Hyun
Title: APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ L'UTILISANT
Abstract:
L'invention concerne un appareil de traitement de substrat comprenant : une chambre de traitement (10) servant à fournir un environnement de traitement isolé de l'extérieur, au moins une unité de mesure de distance (500) servant à mesurer une distance entre un substrat (S) et un masque (350) installés dans la chambre de traitement (10) de manière sans contact, et un mécanisme de pression servant à amener le substrat (S) et le masque (350) en contact étroit en les déplaçant l'un par rapport à l'autre tandis que l'unité de mesure de distance (500) mesure la distance les séparant. L'appareil de traitement de substrat permet d'aligner le substrat (S) avec le masque (350) et de les amener en contact étroit avec de meilleures propriétés de précision et de fiabilité, ce qui permet d'augmenter le rendement du traitement de substrat.