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1. (WO2018110399) GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE ET COMPOSITION DE RÉSINE POUR UNE PHOTOLITHOGRAPHIE
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N° de publication : WO/2018/110399 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/043929
Date de publication : 21.06.2018 Date de dépôt international : 07.12.2017
CIB :
G03F 7/004 (2006.01) ,C09K 3/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,C07D 221/14 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3
Substances non couvertes ailleurs
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
221
Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons ne comportant qu'un atome d'azote comme unique hétéro-atome du cycle, non prévus par les groupes C07D211/-C07D219/210
02
condensés avec des carbocycles ou avec des systèmes carbocycliques
04
Systèmes cycliques condensés en ortho ou en péri
06
Systèmes cycliques à trois cycles
14
Aza-phénalènes, p.ex. naphtalimide-1, 8
Déposants : SAN-APRO LTD.[JP/JP]; 11, Ikkyo Nomoto-cho, Higashiyama-ku, Kyoto-shi Kyoto 6050995, JP
Inventeurs : NAKAMURA Yuji; JP
SHIBAGAKI Tomoyuki; JP
Mandataire : HAYASHI Hiroshi; JP
Données relatives à la priorité :
2016-24016512.12.2016JP
Titre (EN) PHOTOACID GENERATOR AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY
(FR) GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE ET COMPOSITION DE RÉSINE POUR UNE PHOTOLITHOGRAPHIE
(JA) 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物
Abrégé :
(EN) The objective of the present invention is to provide a non-ionic photoacid generator having high photosensitivity to an i-line, and excellent heat-resistance stability, solubility in hydrophobic materials, and alkali developability. The present invention is a non-ionic photoacid generator (A) characterized by being represented by formula (1). [In formula (1), X is a monovalent organic group that is desorbed by the action of an acid and can be substituted by a hydrogen atom, and Rf is a C1-18 hydrocarbon group (all or part of the hydrogen may be replaced by fluorine).]
(FR) La présente invention a pour objet de fournir un générateur de photoacide non ionique présentant une photosensibilité élevée à une ligne i ainsi qu'une excellente stabilité de résistance à la chaleur, une excellente solubilité dans des matériaux hydrophobes et une aptitude au développement alcalin. La présente invention porte sur un générateur de photoacide non ionique (A) caractérisé en ce qu'il est représenté par la formule (1). [Dans la formule (1), X est un groupe organique monovalent qui est désorbé par l'action d'un acide et peut être substitué par un atome d'hydrogène et Rf est un groupe hydrocarboné en C1-C18 (la totalité ou une partie de l'hydrogène peut être remplacée par du fluor)].
(JA) i線に高い光感度を有し、耐熱安定性に優れ、疎水性材料のへの溶解性及びアルカリ現像性に優れる非イオン系光酸発生剤を提供することを目的とする。本発明は、下記一般式(1)で表されることを特徴とする非イオン系光酸発生剤(A)である。 [式(1)中、Xは酸の作用により脱離して水素原子に置換されうる1価の有機基であり、Rfは炭素数1~18の炭化水素基(水素の一部又は全部がフッ素で置換されていてよい)を表す。]
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)