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1. (WO2018106665) DISPOSITIFS À MAGNÉTORÉSISTANCE ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS

Pub. No.:    WO/2018/106665    International Application No.:    PCT/US2017/064669
Publication Date: Fri Jun 15 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Dec 06 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 43/12
H01L 27/22
Applicants: EVERSPIN TECHNOLOGIES, INC.
Inventors: AGGARWAL, Sanjeev
DESHPANDE, Sarin A.
SLAUGHTER, Jon
Title: DISPOSITIFS À MAGNÉTORÉSISTANCE ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS
Abstract:
La présente invention concerne des procédés donnés à titre d'exemple de fabrication d'un dispositif à magnétorésistance. Selon un aspect, un procédé peut consister à former au moins une région (10, 20, 30...) d'un empilement magnéto-résistif (100) sur un substrat (90), le substrat comprenant au moins un dispositif électronique. Le procédé peut également consister à exécuter un processus de recuit unique sur le substrat sur lequel est formée ladite région magnéto-résistive, le processus de recuit unique étant exécuté à une première température minimale. Après l'exécution du processus de recuit unique, le procédé peut consister à graver ou à former des motifs sur au moins une partie de l'empilement magnéto-résistif. De plus, après la gravure ou la formation de motifs sur la partie de l'empilement magnéto-résistif, le procédé peut consister à exécuter tout traitement supplémentaire sur le substrat à une seconde température inférieure à la première température minimale.