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1. (WO2018106386) SYSTÈME DE NETTOYAGE RF POUR ÉLÉMENTS ÉLECTROSTATIQUES

Pub. No.:    WO/2018/106386    International Application No.:    PCT/US2017/060387
Publication Date: Fri Jun 15 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Nov 08 00:59:59 CET 2017
IPC: H01J 37/32
Applicants: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.
Inventors: ANGLIN, Kevin
BINNS, Brant S.
KURUNCZI, Peter F.
SCHEUER, Jay T.
HERMANSON, Eric
LIKHANSKII, Alexandre
Title: SYSTÈME DE NETTOYAGE RF POUR ÉLÉMENTS ÉLECTROSTATIQUES
Abstract:
L'invention concerne des approches pour le nettoyage au plasma in-situ d'un ou de plusieurs composants d'un système d'implantation d'ions. Dans une approche, le composant peut comprendre un composant de ligne de faisceau, tel qu'un module de pureté d'énergie, ayant une pluralité d'éléments optiques à faisceau conducteur contenus dans celui-ci. Le système comprend en outre un système d'alimentation électrique pour fournir une tension et un courant au composant de ligne de faisceau pendant un mode de nettoyage, le système d'alimentation électrique pouvant comprendre une première fiche électrique couplée à un premier sous-ensemble de la pluralité d'éléments optiques à faisceau conducteur et une seconde fiche électrique couplée à un second sous-ensemble de la pluralité d'éléments optiques à faisceau conducteur. Pendant un mode de nettoyage, la tension et le courant peuvent être simultanément fournis et divisés entre chacune des première et seconde fiches électrique.