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1. (WO2018106379) SYSTÈME DE COMMANDE DE LONGUEUR D'ONDE POUR SUIVI DE CIBLE DE LONGUEUR D'ONDE IMPULSION PAR IMPULSION DANS UNE SOURCE DE LUMIÈRE DUV
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N° de publication : WO/2018/106379 N° de la demande internationale : PCT/US2017/060312
Date de publication : 14.06.2018 Date de dépôt international : 07.11.2017
CIB :
G02B 26/10 (2006.01) ,H01S 3/13 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
26
Dispositifs ou systèmes optiques utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables pour commander l'intensité, la couleur, la phase, la polarisation ou la direction de la lumière, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation
08
pour commander la direction de la lumière
10
Systèmes de balayage
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
3
Lasers, c. à d. dispositifs pour la production, l'amplification, la modulation, la démodulation ou le changement de fréquence utilisant l'émission stimulée d'ondes infrarouges, visibles ou ultraviolettes
10
Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation
13
Stabilisation de paramètres de sortie de laser, p.ex. fréquence, amplitude
Déposants :
CYMER, LLC [US/US]; 17075 Thornmint Court San Diego, California 92127-2413, US
Inventeurs :
AHLAWAT, Rahul; US
DUFFEY, Thomas Patrick; US
Mandataire :
NGUYEN, Joseph A; US
Données relatives à la priorité :
15/372,27707.12.2016US
Titre (EN) WAVELENGTH CONTROL SYSTEM FOR PULSE-BY-PULSE WAVELENGTH TARGET TRACKING IN DUV LIGHT SOURCE
(FR) SYSTÈME DE COMMANDE DE LONGUEUR D'ONDE POUR SUIVI DE CIBLE DE LONGUEUR D'ONDE IMPULSION PAR IMPULSION DANS UNE SOURCE DE LUMIÈRE DUV
Abrégé :
(EN) Wafer positioning errors in stepper-scanners contribute to imaging defects. Changing the wavelength of the light source's generated light can compensate for wafer positional errors in the Z-direction. The wafer's real-time z-position is determined and a change in wavelength target to offset this error is communicated to the light source. The light source uses this change in wavelength target in a feed-forward operation and in an embodiment, in combination with existing feedback operations, on a pulse-by-pulse basis for subsequent pulses in a current burst of pulses in addition to receiving the newly-specified laser wavelength target for a subsequent burst of laser pulses.
(FR) Des erreurs de positionnement de tranche dans des scanners à pas contribuent à des défauts d'imagerie. Le changement de la longueur d'onde de la lumière générée de la source de lumière peut compenser des erreurs de position de tranche dans la direction Z. La position z en temps réel de la tranche est déterminée et un changement de cible de longueur d'onde permettant de décaler cette erreur est communiqué à la source de lumière. La source de lumière utilise ce changement de cible de longueur d'onde dans une opération d'anticipation et> dans un mode de réalisation, en combinaison avec des opérations de rétroaction existantes, sur une base d'impulsion par impulsion pour des impulsions subséquentes dans une rafale actuelle d'impulsions en plus de la réception de la cible de longueur d'onde laser nouvellement spécifiée pour une rafale ultérieure d'impulsions laser.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)