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1. (WO2018105647) PLAQUE COLLECTRICE ET BATTERIE À FLUX REDOX
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N° de publication : WO/2018/105647 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/043789
Date de publication : 14.06.2018 Date de dépôt international : 06.12.2017
CIB :
H01M 8/026 (2016.01) ,H01M 8/10 (2016.01) ,H01M 8/18 (2006.01)
Déposants : SHOWA DENKO K.K.[JP/JP]; 13-9, Shibadaimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058518, JP
Inventeurs : ICHIKAWA Masatoshi; JP
ISEKI Keizo; JP
HANAWA Kenzo; JP
Mandataire : OIKAWA Shu; JP
ARA Norihiko; JP
KATSUMATA Tomoo; JP
Données relatives à la priorité :
2016-23671906.12.2016JP
Titre (EN) COLLECTOR PLATE AND REDOX FLOW BATTERY
(FR) PLAQUE COLLECTRICE ET BATTERIE À FLUX REDOX
(JA) 集電板及びレドックスフロー電池
Abrégé : front page image
(EN) This collector plate has, on at least one surface thereof, a peripheral wall that surrounds a prescribed region. At a first surface of the peripheral wall, the surface roughness (Ra) measured along a direction that is orthogonal to the extension direction of the peripheral wall is higher than the surface roughness (Ra) measured along the extension direction of the peripheral wall. The first surface is an exposed surface that is on the one surface side.
(FR) L'invention concerne une plaque collectrice ayant, sur au moins une surface de celle-ci, une paroi périphérique qui entoure une zone prescrite. Au niveau d'une première surface de la paroi périphérique, la rugosité de surface (Ra) mesurée le long d'une direction qui est orthogonale à la direction d'extension de la paroi périphérique est supérieure à la rugosité de surface (Ra) mesurée le long de la direction d'extension de la paroi périphérique. La première surface est une surface exposée qui est sur le côté de surface.
(JA) この集電板は、所定の領域を囲む周縁壁を少なくとも一面に有し、前記周縁壁の前記一面側の露出面である第1面において、前記周縁壁の延在方向と直交する方向に沿って測定した表面粗さ(Ra)が、前記周縁壁の延在方向に沿って測定した表面粗さ(Ra)より大きい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)