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1. (WO2018105532) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, STRATIFIÉ DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MOTIF DE RÉSINE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MOTIF DE FILM DURCI

Pub. No.:    WO/2018/105532    International Application No.:    PCT/JP2017/043358
Publication Date: Fri Jun 15 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Dec 02 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 7/031
G03F 7/004
G03F 7/027
G03F 7/20
Applicants: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
旭化成株式会社
Inventors: MIZUMURA, Kanako
水村 華菜子
NAKADE, Makoto
中出 誠
YOSHIDA, Mayuki
吉田 真由紀
SHIBUI, Satoshi
渋井 智史
MATSUDE, Daisuke
松出 大祐
Title: COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, STRATIFIÉ DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MOTIF DE RÉSINE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MOTIF DE FILM DURCI
Abstract:
L'invention concerne : une composition de résine photosensible qui présente une bonne aptitude au développement et fournit une bonne propriété antirouille pour un film qui a subi une étape de développement alcalin, et qui est appropriée pour protéger une partie conductrice d'une électrode, etc.; et leur procédé de production. La présente invention concerne : une composition de résine photosensible qui est utilisée afin de former un film protecteur pour une partie conductrice et qui comprend (A) une résine soluble dans les alcalis, (B) un composé ayant une double liaison éthyléniquement insaturée, et (C) un initiateur de photopolymérisation, un minimum local du module d'élasticité de stockage de la composition de résine photosensible avant d'être durci étant de 40 Pa ou moins, et la perméabilité à la vapeur d'eau de la composition de résine photosensible après durcissement est de 300 g/m2·24 h ou moins; et son procédé de production.