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1. (WO2018105403) OUTIL DE COUPE À REVÊTEMENT DE SURFACE
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N° de publication : WO/2018/105403 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/042036
Date de publication : 14.06.2018 Date de dépôt international : 22.11.2017
CIB :
B23B 27/14 (2006.01) ,B23B 51/00 (2006.01) ,B23C 5/16 (2006.01) ,B23D 77/00 (2006.01) ,B23F 21/00 (2006.01) ,B23G 5/06 (2006.01) ,C23C 14/06 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO ELECTRIC HARDMETAL CORP.[JP/JP]; 1-1, Koyakita 1-chome, Itami-shi, Hyogo 6640016, JP
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.[JP/JP]; 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410041, JP
Inventeurs : TANAKA, Keizo; JP
SETOYAMA, Makoto; JP
FUKUI, Haruyo; JP
KOBAYASHI, Akira; JP
KURAMOCHI, Koji; JP
Mandataire : FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.; Nakanoshima Festival Tower West, 2-4, Nakanoshima 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005, JP
Données relatives à la priorité :
2016-23943509.12.2016JP
Titre (EN) SURFACE COATED CUTTING TOOL
(FR) OUTIL DE COUPE À REVÊTEMENT DE SURFACE
(JA) 表面被覆切削工具
Abrégé : front page image
(EN) A surface coated cutting tool comprises a base material made of a cemented carbide and a coating. The coating includes an intermediate layer in contact with the base material, and an upper layer formed on the intermediate layer. The upper layer is a single layer comprising an upper basal layer that is a layer in contact with the intermediate layer or a multilayer of two or more layers including the upper basal layer. The crystal system of the base material is a hexagonal crystal system. The intermediate layer and the upper basal layer have a NaCl-type crystal structure. The thickness of the intermediate layer is 3 nm to 10 nm, inclusive. The interplanar spacing mismatch in the boundary region of the base material and the intermediate layer is 65% or less than the theoretical value of the interplanar spacing mismatch between the base material and the upper basal layer. The interplanar spacing mismatch in the boundary region of the intermediate layer and the upper basal layer is 65% or less than the theoretical value of the interplanar spacing mismatch between the base material and the upper basal layer.
(FR) Outil de coupe à revêtement de surface comprenant un matériau de base constitué d'un carbure cémenté et d'un revêtement. Le revêtement comprend une couche intermédiaire en contact avec le matériau de base, et une couche supérieure formée sur la couche intermédiaire. La couche supérieure est une couche unique comprenant une couche basale supérieure qui est une couche en contact avec la couche intermédiaire ou une multicouche de deux couches ou plus comprenant la couche basale supérieure. Le système cristallin du matériau de base est un système à cristaux hexagonaux. La couche intermédiaire et la couche basale supérieure présentent une structure cristalline de type NaCl. L'épaisseur de la couche intermédiaire fait de 3 nm à 10 nm inclus. La désadaptation d'espacement interplanaire dans la région de frontière du matériau de base et de la couche intermédiaire est de 65 % ou moins que la valeur théorique de la désadaptation d'espacement interplanaire entre le matériau de base et la couche basale supérieure. La désadaptation d'espacement interplanaire dans la région de frontière de la couche intermédiaire et de la couche basale supérieure est de 65 % ou moins que la valeur théorique de la désadaptation d'espacement interplanaire entre le matériau de base et la couche basale supérieure.
(JA) 表面被覆切削工具は、超硬合金からなる基材と被膜とを備え、被膜は、基材と接する中間層と、この中間層上に形成された上部層とを含み、上部層は、中間層と接する層である上部基底層からなる単層、または上部基底層を含む2層以上の多層であり、基材の結晶系は六方晶系であり、中間層と上部基底層とは、NaCl型結晶構造を有し、中間層の厚みは、3nm以上10nm以下であり、基材と中間層との界面領域における面間隔不整合度は、基材と上部基底層との面間隔不整合度の理論値の65%以下であり、中間層と上部基底層との界面領域における面間隔不整合度は、基材と上部基底層との面間隔不整合度の理論値の65%以下である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)