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1. (WO2018105123) PROCÉDÉ DE FORMATION DE NANOPORES, DISPOSITIF DE FORMATION DE NANOPORES ET DISPOSITIF DE MESURE DE BIOMOLÉCULES
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N° de publication : WO/2018/105123 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/086812
Date de publication : 14.06.2018 Date de dépôt international : 09.12.2016
CIB :
B01J 19/08 (2006.01) ,B82Y 5/00 (2011.01) ,C12M 1/00 (2006.01) ,B81C 1/00 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
J
PROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE, CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
19
Procédés chimiques, physiques ou physico-chimiques en général; Appareils appropriés
08
Procédés utilisant l'application directe de l'énergie ondulatoire ou électrique, ou un rayonnement particulaire; Appareils à cet usage
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
82
NANOTECHNOLOGIE
Y
UTILISATION OU APPLICATIONS SPÉCIFIQUES DES NANOSTRUCTURES; MESURE OU ANALYSE DES NANOSTRUCTURES; FABRICATION OU TRAITEMENT DES NANOSTRUCTURES
5
Nanobiotechnologie ou nanomédecine, p.ex. génie protéique ou administration de médicaments
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
12
BIOCHIMIE; BIÈRE; SPIRITUEUX; VIN; VINAIGRE; MICROBIOLOGIE; ENZYMOLOGIE; TECHNIQUES DE MUTATION OU DE GÉNÉTIQUE
M
APPAREILLAGE POUR L'ENZYMOLOGIE OU LA MICROBIOLOGIE
1
Appareillage pour l'enzymologie ou la microbiologie
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
81
TECHNOLOGIE DES MICROSTRUCTURES
C
PROCÉDÉS OU APPAREILS SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À LA FABRICATION OU AU TRAITEMENT DE DISPOSITIFS OU DE SYSTÈMES À MICROSTRUCTURE
1
Fabrication ou traitement de dispositifs ou de systèmes dans ou sur un substrat
Déposants :
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
Inventeurs :
柳川 善光 YANAGAWA Yoshimitsu; JP
武田 健一 TAKEDA Kenichi; JP
柳 至 YANAGI Itaru; JP
後藤 佑介 GOTO Yusuke; JP
松井 一真 MATSUI Kazuma; JP
Mandataire :
平木 祐輔 HIRAKI Yusuke; JP
藤田 節 FUJITA Takashi; JP
渡辺 敏章 WATANABE Toshiaki; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) NANOPORE-FORMING METHOD, NANOPORE-FORMING DEVICE AND BIOMOLECULE MEASUREMENT DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE NANOPORES, DISPOSITIF DE FORMATION DE NANOPORES ET DISPOSITIF DE MESURE DE BIOMOLÉCULES
(JA) ナノポア形成方法、ナノポア形成装置及び生体分子計測装置
Abrégé :
(EN) The present invention forms nanopores in a thin film at high speed by: applying a first modulation voltage on the thin film; comparing a threshold value with the magnitude of change in the phase of the electric current flowing in the thin film with respect to the phase of the first modulation voltage; and when the magnitude of the phase change is detected to have exceeded the threshold value, stopping the application of the first modulation voltage.
(FR) La présente invention forme des nanopores dans un film mince à grande vitesse par: l'application d'une première tension de modulation sur le film mince; la comparaison d'une valeur de seuil avec l'amplitude du changement de phase du courant électrique circulant dans le film mince par rapport à la phase de la première tension de modulation; et lorsque l'amplitude du changement de phase est détectée pour avoir dépassé la valeur de seuil, l'arrêt de l'application de la première tension de modulation.
(JA) 薄膜に第1変調電圧を印加し、第1変調電圧の位相に対して薄膜に流れる電流の位相の変化量を閾値と比較し、位相の変化量が閾値を超えたことが検出されたとき第1変調電圧の印加を停止することにより、薄膜にナノポアを高速に形成する。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)