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1. (WO2018104992) PROCÉDÉ DE LAVAGE DE GE, DE SIGE OU DE GERMANIURE

Pub. No.:    WO/2018/104992    International Application No.:    PCT/JP2016/086014
Publication Date: Fri Jun 15 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Dec 06 00:59:59 CET 2016
IPC: H01L 21/304
Applicants: INTERUNIVERSITY MICROELECTRONICS CENTRE
インターユニバーシティ マイクロエレクトロニクス センター
KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
栗田工業株式会社
Inventors: GAN, Nobuko
顔 暢子
NAGAI, Tatsuo
永井 達夫
SEBAAI, Farid
セバイ ファリド
WOSTYN, Kurt
ウォスティン クルト
Title: PROCÉDÉ DE LAVAGE DE GE, DE SIGE OU DE GERMANIURE
Abstract:
L’objectif de l’invention est de laver et d’éliminer les enduits résistants et les résidus de métal efficacement, lors d’un processus de lavage de couches de Ge, de SiGe ou de germaniure pendant la production de dispositifs semi-conducteurs, sans dissoudre le Ge, le SiGe ou le germaniure. Une solution d’acide sulfurique est utilisée en tant que solution de lavage, la concentration en acide sulfurique étant supérieure ou égale à 90 % en poids, et la concentration en oxydant étant supérieure ou égale à 200 g/L. Une solution électrolytique obtenue par électrolyse d’une solution d’acide sulfurique, une solution obtenue par mélange de peroxyde d’hydrogène dans une solution acide, ou une solution obtenue par dissolution d’ozone gazeux dans une solution d’acide sulfurique, peuvent être citées en tant que solution de lavage. La température de traitement pendant le lavage est de préférence supérieure ou égale à 50 °C.