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1. (WO2018104247) COMPOSANT HORLOGER PRESENTANT DES PROPRIETES TRIBOLOGIQUES AMELIOREES ET METHODE D'OPTIMISATION DES PROPRIETES TRIBOLOGIQUES D'UN COMPOSANT HORLOGER
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N° de publication :    WO/2018/104247    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/081407
Date de publication : 14.06.2018 Date de dépôt international : 04.12.2017
CIB :
G04B 15/14 (2006.01)
Déposants : OFFICINE PANERAI AG [CH/CH]; Hinterbergstrasse 22 6312 Steinhausen (CH)
Inventeurs : DREYER-GONZALES, Frédéric; (CH).
HOURIET, Arnaud; (CH)
Mandataire : E-PATENT S.A.; Saint-Honoré 1 Case postale 2510 2001 Neuchâtel (CH)
Données relatives à la priorité :
01587/16 05.12.2016 CH
Titre (EN) TIMEPIECE COMPONENT HAVING IMPROVED TRIBOLOGICAL PROPERTIES AND METHOD FOR OPTIMISING THE TRIBOLOGICAL PROPERTIES OF A TIMEPIECE COMPONENT
(FR) COMPOSANT HORLOGER PRESENTANT DES PROPRIETES TRIBOLOGIQUES AMELIOREES ET METHODE D'OPTIMISATION DES PROPRIETES TRIBOLOGIQUES D'UN COMPOSANT HORLOGER
Abrégé : front page image
(EN)The present invention concerns a timepiece component intended to be subject to dynamic friction, produced from a substrate comprising a silicon layer (10), the crystallographic structure of which has at least one of the forms microcrystalline, polycrystalline or amorphous, said substrate being reinforced by a protective layer (12) produced on the surface of same during a protection operation of the substrate, said component having at least one ionically implanted region (16), this region being located in the protective layer, in the substrate or distributed between the protective layer and the substrate.
(FR)La présente invention concerne un composant horloger destiné à subir un frottement dynamique, réalisé à base d'un substrat comprenant une couche de silicium (10) dont la structure cristallographique comprend au moins l'une des formes monocristalline, polycristalline ou amorphe, ledit substrat étant renforcé par une couche de protection (12) réalisée à sa surface au cours d'une opération de protection du substrat, ledit composant présentant au moins une zone implantée ioniquement (16), cette zone se situant dans la couche de protection, dans le substrat ou répartie entre la couche de protection et le substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)