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1. (WO2018104178) OBJECTIF DE PROJECTION CATADIOPTRIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION

Pub. No.:    WO/2018/104178    International Application No.:    PCT/EP2017/081230
Publication Date: Fri Jun 15 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Dec 02 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 7/20
G02B 17/08
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
Inventors: ROCKTÄSCHEL, Martin
GRUPP, Michael
WAGNER, Hendrik
Title: OBJECTIF DE PROJECTION CATADIOPTRIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abstract:
L'invention concerne un objectif de projection (PO) catadioptrique servant à reproduire un motif d'un masque, ledit motif étant disposé dans un champ d'objet (OF) effectif d'un plan d'objet (OS) de l'objectif de projection dans un champ d'image effectif disposé dans le plan d'image (IS) de l'objectif de projection, au moyen d'un rayonnement électromagnétique d'une longueur d'onde de travail λ < 260 nm. L'objectif de projection comprend une pluralité de lentilles et une pluralité de miroirs comportant au moins un miroir concave (CM), les lentilles et les miroirs définissant un trajet des rayons de projection, lequel s'étend du plan d'objet (OS) jusqu'au plan d'image (IS) et contient au moins un plan de pupille (P2). Les miroirs comprennent un premier miroir (FM1) doté d'une première surface réfléchissante (MS1) qui est agencée dans le trajet de rayons de projection entre le plan d'objet et le plan de pupille (P2) au voisinage optique d'un premier plan de champ conjugué optiquement au plan d'objet ainsi qu'un second miroir (FM2) doté d'une seconde surface réfléchissante (MS2) qui est agencée dans le trajet des rayons de projection entre le plan de pupille (P2) et le plan d'image au voisinage optique d'un second plan de champ conjugué optiquement au premier plan de champ. La première surface réfléchissante (MS1) et/ou la seconde surface réfléchissante (MS2) se présente(nt) sous forme de surface de forme libre.