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1. (WO2018104025) APPAREIL DE MÉTROLOGIE, SYSTÈME LITHOGRAPHIQUE, ET PROCÉDÉ DE MESURE D'UNE STRUCTURE

Pub. No.:    WO/2018/104025    International Application No.:    PCT/EP2017/079491
Publication Date: Fri Jun 15 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Nov 17 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 7/20
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
Inventors: PANDEY, Nitesh
KOOLEN, Armand, Eugene, Albert
Title: APPAREIL DE MÉTROLOGIE, SYSTÈME LITHOGRAPHIQUE, ET PROCÉDÉ DE MESURE D'UNE STRUCTURE
Abstract:
L'invention concerne un appareil de métrologie et des procédés de mesure d'une structure formée sur un substrat par un procédé lithographique. Dans un agencement, un système optique éclaire la structure avec un rayonnement et détecte un rayonnement diffusé par la structure. Le système optique comprend un premier élément dispersif (121). Le premier élément dispersif disperse spectralement le rayonnement diffusé exclusivement à partir d'une première partie (41) d'une distribution de champ de plan de pupille le long d'une première direction de dispersion (56). Un second élément dispersif (122), séparé du premier élément dispersif, disperse spectralement le rayonnement diffusé exclusivement à partir d'une seconde partie (42) de la distribution de champ de plan de pupille, différente de la première partie de la distribution de champ de plan de pupille, le long d'une seconde direction de dispersion (57).