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1. (WO2018104021) PROCÉDÉ DE MESURE D'UNE CIBLE, APPAREIL DE MÉTROLOGIE, ENSEMBLE POLARISEUR
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N° de publication : WO/2018/104021 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/079467
Date de publication : 14.06.2018 Date de dépôt international : 16.11.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs : PANDEY, Nitesh; NL
ZHOU, Zili; NL
Mandataire : BROEKEN, Patrick; NL
Données relatives à la priorité :
16202508.406.12.2016EP
Titre (EN) METHOD OF MEASURING A TARGET, METROLOGY APPARATUS, POLARIZER ASSEMBLY
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE D'UNE CIBLE, APPAREIL DE MÉTROLOGIE, ENSEMBLE POLARISEUR
Abrégé : front page image
(EN) Methods of measuring a target formed by a lithographic process, a metrology apparatus and a polarizer assembly are disclosed. The target comprises a layered structure having a first periodic structure in a first layer and a second periodic structure in a second layer. The target is illuminated with polarized measurement radiation. Zeroth order scattered radiation from the target is detected. An asymmetry in the first periodic structure is derived using the detected zeroth order scattered radiation from the target. A separation between the first layer and the second layer is such that the detected zeroth order scattered radiation is independent of overlay error between the first periodic structure and the second periodic structure. The derived asymmetry in the first periodic structure is used to derive the correct overlay value between the first periodic structure and the second periodic structure.
(FR) La présente invention se rapporte à des procédés de mesure d'une cible formée par un processus lithographique, à un appareil de métrologie, et à un ensemble polariseur. La cible comprend une structure disposée en couches ayant une première structure périodique dans une première couche et une seconde structure périodique dans une seconde couche. La cible est éclairée par un rayonnement de mesure polarisé. Un rayonnement diffusé d'ordre zéro provenant de la cible est détecté. Une asymétrie dans la première structure périodique est dérivée à l'aide du rayonnement diffusé d'ordre zéro provenant de la cible qui a été détecté. Une séparation entre la première couche et la seconde couche est telle que le rayonnement diffusé d'ordre zéro détecté est indépendant d'une erreur de recouvrement entre la première structure périodique et la seconde structure périodique. L'asymétrie dérivée dans ladite première structure périodique sert à dériver la valeur de recouvrement correcte entre la première structure périodique et la seconde structure périodique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)