WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2018102633) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE MARQUAGE LASER DE SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/102633 N° de la demande internationale : PCT/US2017/064115
Date de publication : 07.06.2018 Date de dépôt international : 01.12.2017
CIB :
B41M 5/26 (2006.01) ,B41J 2/435 (2006.01) ,B41J 2/44 (2006.01) ,B41J 2/47 (2006.01)
Déposants : VIDEOJET TECHNOLOGIES INC.[US/US]; 1500 Mittel Boulevard Wood Dale, IL 60191, US
Inventeurs : KUECKENDAHL, Peter, J.; DE
RYAN, Daniel, J.; US
Mandataire : WOLTER, Robert L.; Beusse, Wolter, Sanks & Maire, PLLC 390 N. Orange Ave., Suite 2500 Orlando, FL 32801, US
Données relatives à la priorité :
62/429,16402.12.2016US
Titre (EN) A SYSTEM AND METHOD FOR LASER MARKING SUBSTRATES
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE MARQUAGE LASER DE SUBSTRATS
Abrégé : front page image
(EN) A laser marking system comprises at least one controller to control an array of optical devices, between a laser source and a scan head. The array applies a selected pattern of portions of the received spatial profile of the laser beam to the substrate to achieve a second intensity different from the first intensity of laser beam at a rate of power deposition relative to a rate of thermal diffusion in the substrate for a predetermined time interval to thermally heat locations of the substrate with the selected pattern of the portions. The second intensity effectuates carbonization of materials of the substrate to create a mark without ablation.
(FR) L'invention concerne un système de marquage laser comprenant au moins un dispositif de commande pour commander un réseau de dispositifs optiques entre une source laser et une tête de balayage. Le réseau applique un motif sélectionné de parties du profil spatial reçu du faisceau laser au substrat pour obtenir une seconde intensité différente de la première intensité du faisceau laser à un taux de dépôt de puissance par rapport à un taux de diffusion thermique dans le substrat pendant un intervalle de temps prédéfini pour chauffer thermiquement des emplacements du substrat avec le motif sélectionné des parties. La seconde intensité effectue la carbonisation de matériaux du substrat pour créer une marque sans ablation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)