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1. (WO2018102596) DÉCOUVERTE DE DÉFAUTS ET OPTIMISATION DE RECETTE POUR L'INSPECTION DE STRUCTURES SEMI-CONDUCTRICES TRIDIMENSIONNELLES

Pub. No.:    WO/2018/102596    International Application No.:    PCT/US2017/064040
Publication Date: Fri Jun 08 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Dec 01 00:59:59 CET 2017
IPC: G01N 21/95
G01N 21/88
G01N 21/01
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION
Inventors: BHATTACHARYYA, Santosh
SHARMA, Devashish
MAHER, Christopher
HUA, Bo
MEASOR, Philip
DANEN, Robert
Title: DÉCOUVERTE DE DÉFAUTS ET OPTIMISATION DE RECETTE POUR L'INSPECTION DE STRUCTURES SEMI-CONDUCTRICES TRIDIMENSIONNELLES
Abstract:
L'invention concerne des procédés et des systèmes de découverte de défauts d'intérêt (DOI) enfouis dans des structures semi-conductrices tridimensionnelles et d'optimisation de recette. Le volume d'une tranche de semi-conducteur soumise à une découverte et une vérification de défauts est réduit par mémorisation d'images associées à un sous-ensemble de la profondeur totale des structures semi-conductrices faisant l'objet d'une mesure. Des parcelles d'image associées à des emplacements de défauts au niveau d'un ou de plusieurs plans de mise au point ou plages de mise au point sont enregistrées. Le nombre de modes optiques pris en considération est réduit sur la base d'un élément quelconque parmi une comparaison d'une ou de plusieurs signatures de défaut de niveau de tranche mesurées et d'une ou de plusieurs signatures de défaut de niveau de tranche prévues, un rapport signal/bruit de défaut mesuré, et des défauts vérifiés sans détraitement. En outre, des défauts vérifiés et des images enregistrées sont utilisés pour entraîner un filtre de nuisance et optimiser la recette de mesure. Le filtre de nuisance entraîné est appliqué à des images à défaut pour sélectionner le mode optique optimal pour la production.