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1. (WO2018101377) COMPOSÉ, RÉSINE, COMPOSITIONS, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE CIRCUIT

Pub. No.:    WO/2018/101377    International Application No.:    PCT/JP2017/042947
Publication Date: Fri Jun 08 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Dec 01 00:59:59 CET 2017
IPC: C07C 43/23
C07C 43/295
C07D 311/78
C08G 8/08
C08L 61/04
G03F 7/004
G03F 7/038
G03F 7/039
G03F 7/11
G03F 7/20
H01L 21/027
Applicants: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
三菱瓦斯化学株式会社
Inventors: ECHIGO, Masatoshi
越後 雅敏
Title: COMPOSÉ, RÉSINE, COMPOSITIONS, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE CIRCUIT
Abstract:
L’invention concerne un composé qui possède une structure spécifique représentée par la formule (0), une résine possédant une unité structurale dérivée de ce composé, diverses compositions comprenant ce composé et/ou cette résine, et divers procédés mettant en œuvre cette composition.