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PATENTSCOPE

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1. (WO2018101346) DIAMANT POLYCRISTALLIN AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, OUTIL DE RAINURAGE, ROUE DE RAINURAGE, DRESSEUR, OUTIL ROTATIF, FILIÈRE À ÉTIRER, OUTIL DE COUPE, ÉLECTRODE, ET PROCÉDÉ D’USINAGE METTANT EN ŒUVRE UN DIAMANT POLYCRISTALLIN
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N° de publication : WO/2018/101346 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/042856
Date de publication : 07.06.2018 Date de dépôt international : 29.11.2017
CIB :
C01B 32/25 (2017.01) ,B01J 3/06 (2006.01) ,B23B 27/14 (2006.01) ,B23B 27/20 (2006.01) ,C01B 32/205 (2017.01) ,C04B 35/528 (2006.01) ,C04B 41/87 (2006.01) ,C23C 16/26 (2006.01) ,C25B 11/12 (2006.01) ,C30B 29/04 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.[JP/JP]; 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410041, JP
Inventeurs : IKEDA, Kazuhiro; JP
ARIMOTO, Keiko; JP
YAMAMOTO, Katsuko; JP
SUMIYA, Hitoshi; JP
Mandataire : FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.; Nakanoshima Festival Tower West, 2-4, Nakanoshima 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005, JP
Données relatives à la priorité :
2016-23235530.11.2016JP
Titre (EN) POLYCRYSTALLINE DIAMOND METHOD FOR PRODUCING SAME, SCRIBE TOOL, SCRIBE WHEEL, DRESSER, ROTATING IMPLEMENT, WIRE DRAWING DIE, CUTTING IMPLEMENT, ELECTRODE, AND PROCESSING METHOD IN WHICH POLYCRYSTALLINE DIAMOND IS USED
(FR) DIAMANT POLYCRISTALLIN AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, OUTIL DE RAINURAGE, ROUE DE RAINURAGE, DRESSEUR, OUTIL ROTATIF, FILIÈRE À ÉTIRER, OUTIL DE COUPE, ÉLECTRODE, ET PROCÉDÉ D’USINAGE METTANT EN ŒUVRE UN DIAMANT POLYCRISTALLIN
(JA) 多結晶ダイヤモンドおよびその製造方法、スクライブツール、スクライブホイール、ドレッサー、回転工具、伸線ダイス、切削工具、電極、ならびに多結晶ダイヤモンドを用いた加工方法
Abrégé :
(EN) In the present invention, a diamond single phase is used as the basic structure in a polycrystalline diamond. The polycrystalline diamond comprises a plurality of crystal grains, and contains boron, hydrogen, and oxygen, the remainder comprising carbon and trace impurities. The boron disperses in the crystal grains at the atomic level and at least 90 atom% thereof is present in an isolated substitutional form. The hydrogen and the oxygen are present in the crystal grains as isolated substitutional or interstitial atoms. The crystal grains have a diameter of 500 nm or less, and the surface of the polycrystalline diamond is covered by a protective film.
(FR) Le diamant polycristallin de l’invention présente une monophase de diamant en tant que composition de base, est configuré par une pluralité de grains cristallins, et contient un bore, un hydrogène et un oxygène, le reste consistant en un carbone et des impuretés à l’état de trace. Le bore est dispersé à un niveau atomique dans les grains cristallins, et 90% atomiques ou plus de ce bore sont présents en tant que substitution isolée. L’hydrogène et l’oxygène sont présents en tant que substitution isolée ou position interstitielle dans les grains cristallins. Les grains cristallins présentent un diamètre de grain inférieur ou égal à 500nm. La surface du diamant polycristallin est revêtue par un film protecteur.
(JA) 多結晶ダイヤモンドは、ダイヤモンド単相を基本組成とし、複数の結晶粒により構成され、ホウ素と、水素と、酸素とを含み、残部が炭素および微量不純物であり、ホウ素が結晶粒中に原子レベルで分散しかつその90原子%以上が孤立置換型として存在し、水素および酸素が結晶粒中に孤立置換型または侵入型として存在し、結晶粒はその粒径が500nm以下であり、多結晶ダイヤモンドの表面が保護膜で被覆されている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)