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1. (WO2018101278) LIQUIDE DE REVÊTEMENT POUR FORMER UN FILM ISOLANT D'OXYDE OU D'OXYNITRURE, FILM ISOLANT D'OXYDE OU D'OXYNITRURE, TRANSISTOR À EFFET DE CHAMP ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION

Pub. No.:    WO/2018/101278    International Application No.:    PCT/JP2017/042686
Publication Date: Fri Jun 08 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Nov 29 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 21/318
H01L 21/336
H01L 29/786
Applicants: RICOH COMPANY, LTD.
株式会社リコー
UEDA, Naoyuki
植田 尚之
NAKAMURA, Yuki
中村 有希
ABE, Yukiko
安部 由希子
MATSUMOTO, Shinji
松本 真二
SONE, Yuji
曽根 雄司
SAOTOME, Ryoichi
早乙女 遼一
ARAE, Sadanori
新江 定憲
KUSAYANAGI, Minehide
草柳 嶺秀
ANDO, Yuichi
安藤 友一
Inventors: UEDA, Naoyuki
植田 尚之
NAKAMURA, Yuki
中村 有希
ABE, Yukiko
安部 由希子
MATSUMOTO, Shinji
松本 真二
SONE, Yuji
曽根 雄司
SAOTOME, Ryoichi
早乙女 遼一
ARAE, Sadanori
新江 定憲
KUSAYANAGI, Minehide
草柳 嶺秀
ANDO, Yuichi
安藤 友一
Title: LIQUIDE DE REVÊTEMENT POUR FORMER UN FILM ISOLANT D'OXYDE OU D'OXYNITRURE, FILM ISOLANT D'OXYDE OU D'OXYNITRURE, TRANSISTOR À EFFET DE CHAMP ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
Abstract:
L'invention concerne un liquide de revêtement permettant de former un film isolant d'oxyde ou d'oxynitrure, le liquide de revêtement contenant : un élément A ; un élément B et/ou un élément C ; et un solvant, l'élément A étant au moins un élément choisi dans le groupe constitué par Sc, Y, Ln (lanthanoïde), Sb, Bi et Te, l'élément B étant au moins un élément choisi dans le groupe constitué par Ga, Ti, Zr et Hf, l'élément C étant au moins un élément choisi dans le groupe constitué par les éléments du groupe 2 du tableau périodique, et le solvant contient au moins un solvant choisi dans le groupe constitué par l'eau et les solvants organiques ayant un point d'éclair supérieur ou égal à 21 °C mais inférieur à 200 °C.