Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales

1. (WO2018101065) DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA

Pub. No.:    WO/2018/101065    International Application No.:    PCT/JP2017/041305
Publication Date: Fri Jun 08 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Nov 17 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 21/3065
H05H 1/46
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED
東京エレクトロン株式会社
TOHOKU UNIVERSITY
国立大学法人東北大学
Inventors: HIRAYAMA Masaki
平山 昌樹
Title: DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA
Abstract:
Un dispositif de traitement au plasma selon un mode de réalisation de la présente invention comprend : un corps principal de chambre dans lequel une chambre est disposée; une unité d'alimentation en gaz qui fournit un gaz de traitement à l'intérieur de la chambre; un étage qui est disposé à l'intérieur de la chambre; une électrode supérieure qui a une surface ronde faisant face à l'étage à travers l'espace à l'intérieur de la chambre; un conducteur qui est connecté à l'électrode supérieure; une alimentation électrique haute fréquence qui génère une première fréquence, qui est une fréquence comprise entre 100 et 1000 MHz inclus, ladite alimentation électrique haute fréquence étant connectée à l'électrode supérieure par l'intermédiaire du conducteur; une alimentation électrique de polarisation qui applique une polarisation CC ou une seconde haute fréquence, qui est une fréquence inférieure à la première haute fréquence, à l'électrode supérieure; une bague isolante annulaire qui s'étend le long du bord externe de la surface de l'électrode supérieure; un guide d'ondes qui propage une onde électromagnétique générée autour du conducteur sur la base de la première haute fréquence, ledit guide d'ondes étant connecté à la bague isolante au niveau du côté extérieur de l'électrode supérieure; et une unité de commande qui commande la seconde haute fréquence ou la polarisation CC appliquée à l'électrode supérieure.