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1. (WO2018100868) ÉLÉMENT OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT OPTIQUE
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N° de publication : WO/2018/100868 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/035625
Date de publication : 07.06.2018 Date de dépôt international : 29.09.2017
CIB :
G02B 5/18 (2006.01) ,G02B 6/124 (2006.01) ,H01S 5/022 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
18
Grilles de diffraction
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6
Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10
du type guide d'ondes optiques
12
du genre à circuit intégré
122
Elements optiques de base, p.ex. voies de guidage de la lumière
124
Lentilles géodésiques ou réseaux intégrés
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
5
Lasers à semi-conducteurs
02
Détails ou composants structurels non essentiels au fonctionnement laser
022
Supports; Boîtiers
Déposants : NGK INSULATORS, LTD.[JP/JP]; 2-56, Suda-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi 4678530, JP
Inventeurs : NIWA,Kousuke; JP
KONDOU,Jungo; JP
YAMAGUCHI,Shoichiro; JP
ASAI,Keiichiro; JP
Mandataire : AXIS PATENT INTERNATIONAL; Shimbashi i-mark Bldg., 6-2 Shimbashi 2-Chome, Minato-ku, Tokyo 1050004, JP
Données relatives à la priorité :
2016-23539402.12.2016JP
Titre (EN) OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT OPTIQUE
(JA) 光学素子及びその製造方法
Abrégé :
(EN) The present invention simultaneously achieves optical characteristics based on the periodic structure of an optical waveguide layer of the optical element and a reduction in the number of grooves included in the periodic structure of the optical waveguide layer. An optical element 5 is provided with an optical waveguide layer 53 to which a periodic structure 6 of grooves 61 is provided. The optical waveguide layer 53 has a layer thickness of 1.5 µm or more, and is made of a material selected from the group consisting of Ta2O5, Al2O3, LiNbO3, LiTaO3, AlN, GaN, SiC, and yttrium-aluminum-garnet (YAG). D/0.5Ʌ ≥ 2.5 is satisfied when D represents the depth of the grooves of the periodic structure and Ʌ represents an array pitch, the unit of D and the unit of Λ being the same.
(FR) La présente invention réalise simultanément des caractéristiques optiques sur la base de la structure périodique d'une couche de guide d'ondes optique de l'élément optique et d'une réduction du nombre de rainures incluses dans la structure périodique de la couche de guide d'ondes optique. Un élément optique 5 est pourvu d'une couche de guide d'ondes optique 53 sur laquelle est disposée une structure périodique 6 de rainures 61. La couche de guide d'ondes optique 53 a une épaisseur de couche de 1,5 µm ou plus, et est constituée d'un matériau choisi dans le groupe constitué par Ta2O5, Al2O3, LiNbO3, LiTaO3, AlN, GaN, SiC, et l'yttrium-aluminium-grenat (YAG). D/0,5 m ≥ 2,5 est satisfaite lorsque D représente la profondeur des rainures de la structure périodique et représente un pas de réseau, l'unité de D et l'unité de Λ étant identiques.
(JA) 光学素子の光導波層の周期構造に基づく光学特性の達成と、光導波層の周期構造に含まれる溝の個数の低減の両方を同時に達成すること。光学素子5は、溝61の周期構造6が設けられた光導波層53を備える。光導波層53が、1.5μm以上の層厚を有し、また、Ta25、Al23、LiNbO3、LiTaO3、AlN、GaN、SiC、及びイットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG)から成る群から選択される材料から成る。周期構造の溝の深さをDとし、配列ピッチをΛとし、Dの単位とΛの単位が同一の時、D/0.5Λ≧2.5を満足する。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)