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1. (WO2018100799) BUSE DE PULVÉRISATION
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N° de publication : WO/2018/100799 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/027332
Date de publication : 07.06.2018 Date de dépôt international : 27.07.2017
CIB :
B05B 15/00 (2006.01) ,B05B 7/06 (2006.01) ,F24F 6/14 (2006.01) ,F25B 19/04 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
B
APPAREILLAGES DE PULVÉRISATION; APPAREILLAGES D'ATOMISATION; AJUTAGES OU BUSES
15
Parties constitutives des installations ou des appareillages de pulvérisation non prévus ailleurs; Accessoires
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
B
APPAREILLAGES DE PULVÉRISATION; APPAREILLAGES D'ATOMISATION; AJUTAGES OU BUSES
7
Appareillages de pulvérisation pour débiter des liquides ou d'autres matériaux fluides provenant de plusieurs sources, p.ex. un liquide et de l'air, une poudre et un gaz
02
Pistolets pulvérisateurs; Appareillages pour l'évacuation
06
avec un orifice de sortie en entourant un autre situé approximativement dans le même plan
F MÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
24
CHAUFFAGE; FOURNEAUX; VENTILATION
F
CONDITIONNEMENT DE L'AIR; HUMIDIFICATION DE L'AIR; VENTILATION; UTILISATION DE COURANTS D'AIR COMME ÉCRANS
6
Humidification de l'air
12
par dispersion d'eau dans l'air
14
en utilisant des buses
F MÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
25
RÉFRIGÉRATION OU REFROIDISSEMENT; SYSTÈMES COMBINÉS DE CHAUFFAGE ET DE RÉFRIGÉRATION; SYSTÈMES À POMPES À CHALEUR; FABRICATION OU EMMAGASINAGE DE LA GLACE; LIQUÉFACTION OU SOLIDIFICATION DES GAZ
B
MACHINES, INSTALLATIONS OU SYSTÈMES FRIGORIFIQUES; SYSTÈMES COMBINÉS DE CHAUFFAGE ET DE RÉFRIGÉRATION; SYSTÈMES À POMPES À CHALEUR
19
Machines, installations ou systèmes utilisant l'évaporation d'un frigorigène mais sans récupération de vapeur
02
utilisant un jet fluide, p.ex. de vapeur
04
utilisant un jet liquide, p.ex. d'eau
Déposants :
東芝三菱電機産業システム株式会社 TOSHIBA MITSUBISHI-ELECTRIC INDUSTRIAL SYSTEMS CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区京橋三丁目1番1号 3-1-1 Kyobashi, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
Inventeurs :
森園 寧 MORIZONO, Yasushi; JP
Mandataire :
高田 守 TAKADA, Mamoru; 東京都中央区築地1丁目12番22号 コンワビル7階 特許業務法人 高田・高橋国際特許事務所 TAKADA, TAKAHASHI & PARTNERS, Konwa Bldg. 7F, 12-22 Tsukiji 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040045, JP
Données relatives à la priorité :
2016-23297630.11.2016JP
Titre (EN) SPRAY NOZZLE
(FR) BUSE DE PULVÉRISATION
(JA) 噴霧ノズル
Abrégé :
(EN) The present invention provides a spray nozzle for spraying liquid that is atomized by gas. The spray nozzle includes a liquid-dripping prevention mechanism that prevents dripping of the liquid from the spray nozzle, caused as a result of charged fine particles of the liquid sprayed from the spray nozzle being attracted to and attached to the spray nozzle.
(FR) L'invention concerne une buse de pulvérisation d'un liquide atomisé par du gaz. La buse de pulvérisation comprend un mécanisme de prévention d'égouttement de liquide qui empêche l'égouttement du liquide de la buse dû au fait que des particules fines chargées du liquide pulvérisé de la buse sont attirées et fixées à celle-ci.
(JA) 噴霧ノズルは、液体を気体により微粒化して噴霧する噴霧ノズルであって、前記噴霧ノズルから噴霧された、帯電した前記液体の微粒子が前記噴霧ノズルへ引き寄せられて付着することに起因する前記噴霧ノズルからの前記液体の滴下を防止する液体滴下防止機構を具備する。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)