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1. (WO2018100721) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE PANNEAU, PANNEAU ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE PANNEAU

Pub. No.:    WO/2018/100721    International Application No.:    PCT/JP2016/085784
Publication Date: Fri Jun 08 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Dec 02 00:59:59 CET 2016
IPC: B32B 3/12
B05D 3/12
C09J 5/00
F16B 5/01
Applicants: MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
三菱電機株式会社
Inventors: HARADA, Katsuya
原田 一八
TSUZUKI, Eiji
都築 英嗣
SHIODA, Kazuma
塩田 一馬
NAGAKURA, Yasunori
長倉 裕規
MATSUNAGA, Keishi
松永 圭史
SAKAKIBARA, Takahiro
榊原 隆浩
Title: PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE PANNEAU, PANNEAU ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE PANNEAU
Abstract:
L'invention concerne une plaque de base (111) tout d'abord placée dans une partie inférieure d'un trou d'intégration (103) disposé dans une âme nid d'abeilles (101). Une charge (113) pour bloquer des espaces entre des parties latérales de la plaque de base et des surfaces de paroi de l'âme nid d'abeilles est ensuite appliquée sur une surface supérieure de la plaque de base. Une plaque de poussée (112) est ensuite poussée contre la charge. Ce faisant, la charge pénètre dans les espaces, et les espaces sont bloqués par la charge.