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1. (WO2018100618) SYSTÈME DE RÉGÉNÉRATION DE GAZ POUR LASER ET SYSTÈME LASER
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N° de publication : WO/2018/100618 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/085340
Date de publication : 07.06.2018 Date de dépôt international : 29.11.2016
CIB :
H01S 3/03 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
3
Lasers, c. à d. dispositifs pour la production, l'amplification, la modulation, la démodulation ou le changement de fréquence utilisant l'émission stimulée d'ondes infrarouges, visibles ou ultraviolettes
02
Détails de structure
03
des tubes laser à décharge dans le gaz
Déposants : GIGAPHOTON INC.[JP/JP]; 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558, JP
Inventeurs : YASHIRO Masanori; JP
TSUSHIMA Hiroaki; JP
WAKABAYASHI Osamu; JP
Mandataire : HOSAKA Nobuhisa; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) LASER GAS REGENERATION SYSTEM AND LASER SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE RÉGÉNÉRATION DE GAZ POUR LASER ET SYSTÈME LASER
(JA) レーザガス再生システム及びレーザシステム
Abrégé :
(EN) This laser gas regeneration system is for an excimer laser device comprising: a first piping configured in such a manner that a first laser gas can be supplied to a laser chamber; a second piping configured in such a manner that a second laser gas, whereof the halogen gas concentration is higher than that of the first laser gas, can be supplied to the laser chamber; and a third piping configured in such a manner that gas exhausted from the laser chamber can pass therethrough. This laser gas regeneration system comprises: a gas purification section for purifying the gas that has passed through the third piping; a branching section whereby the gas that has entered the gas purification unit and has been purified is branched to a fourth piping and to a fifth piping; a first regeneration gas supply section whereby the gas that has been branched to the fourth piping is supplied to the first piping; and a second regeneration gas supply section whereby a halogen gas is added to the gas that has been branched to the fifth piping, and the gas added with the halogen gas is supplied to the second piping.
(FR) Ce système de régénération de gaz pour laser est destiné à un dispositif laser à excimères comprenant : une première tuyauterie configurée de telle sorte qu'un premier gaz pour laser puisse être fourni à une chambre laser ; une deuxième tuyauterie configurée de telle sorte qu'un second gaz pour laser, dont la concentration en gaz halogène est supérieure à celle du premier gaz pour laser, puisse être fourni à la chambre laser ; et une troisième tuyauterie configurée de telle manière que le gaz évacué de la chambre laser puisse passer par celle-ci. Ce système de régénération de gaz pour laser comprend : une section d'épuration de gaz pour épurer le gaz qui est passé par la troisième tuyauterie ; une section de ramification permettant au gaz qui a pénétré dans l'unité d'épuration de gaz et a été épuré d'être orienté vers une quatrième tuyauterie et une cinquième tuyauterie ; une première section d'alimentation en gaz de régénération permettant au gaz qui a été orienté vers la quatrième tuyauterie d'être fourni à la première tuyauterie ; et une seconde section d'alimentation en gaz de régénération permettant à un gaz halogène d'être ajouté au gaz qui a été orienté vers la cinquième tuyauterie, et au gaz auquel a été ajouté le gaz halogène d'être fourni à la seconde tuyauterie.
(JA) レーザガス再生システムは、第1のレーザガスをレーザチャンバに供給可能に構成された第1の配管と、第1のレーザガスよりもハロゲンガス濃度の高い第2のレーザガスをレーザチャンバに供給可能に構成された第2の配管と、レーザチャンバから排出されたガスを通過可能に構成された第3の配管と、を含むエキシマレーザ装置のためのレーザガス再生システムであって、第3の配管を通過したガスを精製するガス精製部と、ガス精製部に流入して精製されたガスを第4の配管と第5の配管とに分岐させる分岐部と、第4の配管に分岐したガスを第1の配管に供給する第1の再生ガス供給部と、第5の配管に分岐したガスにハロゲンガスを添加し、ハロゲンガスを添加されたガスを第2の配管に供給する第2の再生ガス供給部と、を備える。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)