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1. (WO2018100595) SOLUTION D'ÉLIMINATION DE RÉSERVE

Pub. No.:    WO/2018/100595    International Application No.:    PCT/JP2016/005013
Publication Date: Fri Jun 08 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Nov 30 00:59:59 CET 2016
IPC: G03F 7/42
Applicants: PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD.
パナソニックIPマネジメント株式会社
Inventors: FUCHIGAMI, Shinichirou
淵上 真一郎
KITO, Yusuke
鬼頭 佑典
SUZUKI, Yasunori
鈴木 靖紀
Title: SOLUTION D'ÉLIMINATION DE RÉSERVE
Abstract:
Selon l'invention, dans des procédés permettant de fabriquer des dispositifs à semi-conducteur, etc., un durcissement est effectué à une température supérieure à celle du passé afin d'éviter un durcissement défectueux de réserves. Une solution d'élimination ayant une puissance d'élimination supérieure à celle du passé est par conséquent exigée. Une solution d'élimination de réserve contient une amine primaire et/ou secondaire faisant office d'amine, du 2-pyrrolidone (2P) et/ou du 1-méthyl-2-pyrrolidone (NMP) servant de solvant polaire, du propylèneglycol (PG), et de l'eau, et elle contient de l'hydrazine faisant office d'additif. L'amine contenue représente une quantité supérieure à 3 % en masse et jusqu'à 40 % en masse, le propylèneglycol contenu représente une quantité supérieure à 10 % en masse et inférieure à 40 % en masse, et l'eau contenue représente une quantité supérieure à 5,0 % en masse et inférieure à 30,0 % en masse. La solution d'élimination de réserve peut éliminer un film de réserve soumis à une cuisson à haute température, et elle ne corrode ni une surface ni une section transversale de film métallique.