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1. (WO2018099756) PROCÉDÉ D'INSPECTION D'UN ÉCHANTILLON ET DISPOSITIF À FAISCEAUX MULTIPLES DE PARTICULES CHARGÉES
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N° de publication :    WO/2018/099756    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/079797
Date de publication : 07.06.2018 Date de dépôt international : 20.11.2017
CIB :
H01J 37/28 (2006.01), H01J 37/153 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD. [IL/IL]; 9 Oppenheimer St. 7670109 Rehovot (IL).
TECHNISCHE UNIVERSITEIT DELFT [NL/NL]; Stevinweg 1 2628 CN Delft (NL)
Inventeurs : FROSIEN, Jürgen; (DE).
KRUIT, Pieter; (NL)
Mandataire : ZIMMERMANN & PARTNER PATENTANWÄLTE MBB; Josephspitalstr. 15 80331 München (DE)
Données relatives à la priorité :
15/366,455 01.12.2016 US
Titre (EN) METHOD FOR INSPECTING A SPECIMEN AND CHARGED PARTICLE MULTI-BEAM DEVICE
(FR) PROCÉDÉ D'INSPECTION D'UN ÉCHANTILLON ET DISPOSITIF À FAISCEAUX MULTIPLES DE PARTICULES CHARGÉES
Abrégé : front page image
(EN)A method for inspecting a specimen with an array of primary charged particle beamlets in a charged particle beam device having an optical axis. The method includes generating a primary charged particle beam; illuminating a multi-aperture lens plate with the primary charged particle beam to generate the array of primary charged particle beamlets; and correcting a field curvature of the charged particle beam device with a first and a second field curvature correction electrode. The method further includes applying a voltage to the first and to the second field curvature correction electrode. At least one of the field strength provided by the first and the second field curvature correction electrode varies in a plane perpendicular to the optical axis of the charged particle beam device. The method further includes focusing the primary charged particle beamlets on separate locations on the specimen with an objective lens.
(FR)L'invention concerne un procédé d'inspection d'un échantillon avec un réseau de petits faisceaux de particules chargées primaires dans un dispositif à faisceau de particules chargées ayant un axe optique. Le procédé comprend la génération d'un faisceau de particules chargées primaires; l'éclairage d'une plaque de lentilles à ouvertures multiples avec le faisceau de particules chargées primaires pour générer le réseau de petits faisceaux de particules chargées primaires; et la correction d'une courbure de champ du dispositif à faisceau de particules chargées avec de première et seconde électrodes de correction de courbure de champ. Le procédé consiste en outre à appliquer une tension aux première et seconde électrodes de correction de courbure de champ. Au moins l'une de l'intensité de champ fournie par les première et seconde électrodes de correction de courbure de champ varie dans un plan perpendiculaire à l'axe optique du dispositif à faisceau de particules chargées. Le procédé consiste en outre à focaliser les petits faisceaux de particules chargées primaires sur des emplacements séparés sur l'échantillon avec une lentille d'objectif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)