Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018099156) APPAREIL DE TRAITEMENT SOUS VIDE, SYSTÈME ET PROCÉDÉ D'OBSERVATION D'ÉCHANTILLON
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/099156 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/100486
Date de publication : 07.06.2018 Date de dépôt international : 05.09.2017
CIB :
H01J 37/28 (2006.01) ,H01J 37/18 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26
Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
28
avec faisceaux de balayage
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
18
Fermetures étanches
Déposants :
FOCUS-EBEAM TECHNOLOGY (BEIJING) CO., LTD. [CN/CN]; Room 8101, No.3 Building, Yongchang Industrial Park No.3, Yongchang North Road, BDA Beijing 100176, CN
Inventeurs :
HE, Wei; CN
LI, Shuai; CN
WANG, Peng; CN
Mandataire :
CHINA PAT INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; 2nd Floor, Zhongguancun Intellectual Property Building Block B, No.21 Haidian South Road, Haidian District Beijing 100080, CN
Données relatives à la priorité :
201611090486.801.12.2016CN
Titre (EN) VACUUM CONDITION PROCESSING APPARATUS, SYSTEM AND METHOD FOR SPECIMEN OBSERVATION
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT SOUS VIDE, SYSTÈME ET PROCÉDÉ D'OBSERVATION D'ÉCHANTILLON
Abrégé :
(EN) A vacuum condition processing apparatus(100) is provided, the top of which is connected to an external charged particle beam generating device(200), and the apparatus includes: a suction cup(101) in contact with the specimen(113) to be observed or the stage(601) holding the specimen, a first gas controlling device(103) connected to an external gas supplying system(102), and a second gas controlling device(112) connected to an external pumping system(104); a window(111) is deployed at the top of the apparatus, through which the particle beam can go into the apparatus; the first gas controlling device is arranged to connect the gas supplying system and the suction cup; the second gas controlling device is arranged to connect the gas pumping system and the suction cup. A specimen observation system and method are provided.
(FR) L'invention concerne un appareil de traitement sous vide (100) dont la partie supérieure est reliée à un dispositif (200) de génération de faisceau de particules chargées externe, l’appareil comprenant : une ventouse (101) en contact avec l'échantillon (113) à observer ou la plaque (601) portant l'échantillon, un premier dispositif de commande de gaz (103) connecté à un système d'alimentation en gaz externe (102), et un second dispositif de commande de gaz (112) connecté à un système de pompage externe (104). Une fenêtre (111) est déployée au niveau de la partie supérieure de l'appareil pour permettre l’entrée du faisceau de particules dans l'appareil. Le premier dispositif de commande de gaz est agencé pour relier le système d'alimentation en gaz et la ventouse. Le second dispositif de commande de gaz est agencé pour relier le système de pompage de gaz et la ventouse. L'invention concerne également un système et un procédé d’observation d’échantillon.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)