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1. (WO2018099055) MASQUE DE DÉPÔT ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT

Pub. No.:    WO/2018/099055    International Application No.:    PCT/CN2017/090231
Publication Date: Fri Jun 08 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Jun 28 01:59:59 CEST 2017
IPC: C23C 14/04
C23C 14/24
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
京东方科技集团股份有限公司
ORDOS YUANSHENG OPTOELECTRONICS CO., LTD.
鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
Inventors: YANG, Fan
杨凡
LIANG, Yinan
梁逸南
GUO, Kun
郭坤
Title: MASQUE DE DÉPÔT ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT
Abstract:
L'invention concerne un masque de dépôt et un procédé de dépôt. Un masque de dépôt (100) comprend une région écran (120) et une pluralité de régions de dépôt (110) disposées en réseau. Chacune de la pluralité de régions de dépôt (110), prise dans son ensemble, est une structure ouverte (111) ; la région écran (120) est configurée pour entourer chacune des régions de dépôt (110), de manière à séparer des régions de dépôt adjacentes (110) les unes des autres ; et la région écran (120) est pourvue d'une pluralité de structures d'ouverture (121). Le masque de dépôt peut non seulement améliorer l'effet d'affichage d'un dispositif d'affichage, mais également assurer la normalité de positions dans une région périphérique d'une région d'affichage, garantissant ainsi le résultat attendu lors du contrôle d'aspect des produits.