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1. (WO2018097580) PHOTO-INITIATEUR ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE PROTECTION CONTRE LA LUMIÈRE LE CONTENANT
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N° de publication : WO/2018/097580 N° de la demande internationale : PCT/KR2017/013309
Date de publication : 31.05.2018 Date de dépôt international : 22.11.2017
CIB :
G03F 7/028 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/105 (2006.01) ,C07C 271/08 (2006.01) ,G03F 7/16 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01)
Déposants : SAMYANG CORPORATION[KR/KR]; 31, Jong-ro 33-gil Jongno-gu Seoul 03129, KR
Inventeurs : CHOI, Jung Sik; KR
KIM, Tae Soo; KR
KIM, Tae Oon; KR
SEE, Yoon Ki; KR
AHN, Jung Min; KR
YANG, Young Eun; KR
OH, Chun Rim; KR
YOO, Kwon Yil; KR
LEE, Duck Hee; KR
LEE, Won Jung; KR
Mandataire : HANSUNG INTELLECTUAL PROPERTY; 4F., 23, Gangnam-daero 84-gil Gangnam-gu Seoul 06233, KR
Données relatives à la priorité :
10-2016-015833425.11.2016KR
Titre (EN) PHOTOINITIATOR AND LIGHT-SHIELDING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION CONTAINING SAME
(FR) PHOTO-INITIATEUR ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE PROTECTION CONTRE LA LUMIÈRE LE CONTENANT
(KO) 광-개시제 및 이를 포함하는 차광용 감광성 수지 조성물
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a photoinitiator and a light-shielding photosensitive resin composition containing the same and, more specifically, to: a photoinitiator comprising compounds of two or more groups selected from a group of chemical formula 1, a group of chemical formula 2, and a group of chemical formula 3; and a photosensitive resin composition containing the same so as to exhibit improved light shielding property, and also exhibiting excellent deep curing properties so as to be advantageous in pattern formation and phenomenon processing, which use a photolithographic method, thereby being suitably usable as a light-shielding photosensitive resin composition for an organic light emitting material display panel.
(FR) La présente invention concerne un photo-initiateur et une composition de résine photosensible de protection contre la lumière le contenant et, plus spécifiquement : un photo-initiateur comprenant des composés d'au moins deux groupes choisis parmi un groupe de la formule chimique 1, un groupe de la formule chimique 2, et un groupe de la formule chimique 3 ; et une composition de résine photosensible contenant celui-ci de manière à présenter une propriété améliorée de protection contre la lumière, et présentant également d'excellentes propriétés de durcissement profond de manière avantageuse pour la formation de motifs et le traitement de phénomènes, qui mettent en œuvre un procédé photo-lithographique, de sorte à pouvoir être utilisée de manière appropriée en tant que composition de résine photosensible de protection contre la lumière pour un écran à matériau électroluminescent organique.
(KO) 본 발명은 광-개시제 및 이를 포함하는 차광용 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 화학식 1의 그룹, 화학식 2의 그룹 및 화학식 3의 그룹 중에서 선택되는 2 이상의 그룹의 화합물들을 함유하는 광-개시제, 및 이를 포함하여 향상된 차광성을 나타내고, 또한 우수한 심부 경화성을 나타내어 포토리소그래피법을 사용한 패턴 형성 및 현상 공정에 유리하므로, 유기 발광소재 디스플레이 패널용 차광용 감광성 수지 조성물로서 적합하게 사용될 수 있는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)