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1. (WO2018097203) DISPOSITIF DE FILTRE À ONDES ÉLASTIQUES, MULTIPLEXEUR, CIRCUIT FRONTAL À HAUTE FRÉQUENCE, ET DISPOSITIF DE COMMUNICATION
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N° de publication :    WO/2018/097203    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/042080
Date de publication : 31.05.2018 Date de dépôt international : 22.11.2017
CIB :
H03H 9/145 (2006.01), H03H 9/64 (2006.01), H03H 9/72 (2006.01), H04B 1/00 (2006.01), H04B 1/52 (2015.01), H04B 1/58 (2006.01)
Déposants : MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555 (JP)
Inventeurs : NOSAKA, Koji; (JP)
Mandataire : YOSHIKAWA, Shuichi; (JP).
SOBAJIMA, Masaaki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-229324 25.11.2016 JP
Titre (EN) ELASTIC WAVE FILTER DEVICE, MULTIPLEXER, HIGH FREQUENCY FRONT-END CIRCUIT, AND COMMUNICATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FILTRE À ONDES ÉLASTIQUES, MULTIPLEXEUR, CIRCUIT FRONTAL À HAUTE FRÉQUENCE, ET DISPOSITIF DE COMMUNICATION
(JA) 弾性波フィルタ装置、マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路および通信装置
Abrégé : front page image
(EN)An elastic wave filter (10) is provided with: series arm resonators s1,s2 each comprising an elastic wave resonator; and a parallel arm resonator p1 that is provided in a second path connecting a node N and the ground to each other, said node N connecting the series arm resonators s1, s2 to each other. Each of the series arm resonators s1, s2 has at least a piezoelectric body and an IDT electrode, and furthermore, the series arm resonator s2 has a second adjustment film for adjusting Ksaw, the antiresonant frequency of the series arm resonator s1 is higher than the antiresonant frequency of the series arm resonator s2, and (1) the adjustment film for adjusting the Ksaw is not formed in the series arm resonator s1, or (2) a first adjustment film for adjusting the Ksaw, said first adjustment film being formed in the series arm resonator s1, is thinner than the second adjustment film.
(FR)Un filtre à ondes élastiques (10) comprend : des résonateurs à bras en série s1, s2 comprenant chacun un résonateur à ondes élastiques ; et un résonateur à bras en parallèle p1 qui est disposé dans un second trajet connectant un noeud N et la masse l'un à l'autre, ledit noeud N connectant les résonateurs à bras en série s1, s2 les uns aux autres. Chacun des résonateurs à bras en série s1, s2 comprend au moins un corps piézoélectrique et une électrode IDT, et en outre, le résonateur à bras en série s2 a un second film de réglage permettant de régler Ksaw, la fréquence d'antirésonance du résonateur à bras en série s1 est supérieure à la fréquence d'antirésonance du résonateur à bras en série s2, et (1) le film de réglage permettant de régler Ksaw n'est pas formé dans le résonateur à bras en série s1, ou (2) un premier film de réglage permettant de régler Ksaw, ledit premier film de réglage étant formé dans le résonateur à bras en série s1, est plus mince que le second film de réglage.
(JA)弾性波フィルタ(10)は、弾性波共振子からなる直列腕共振子s1およびs2と、直列腕共振子s1とs2とを接続するノードNとグランドとを結ぶ第2経路に設けられた並列腕共振子p1とを備え、直列腕共振子s1およびs2のそれぞれは、圧電体およびIDT電極を少なくとも有し、さらに、直列腕共振子s2は、Ksawを調整する第2調整膜を有し、直列腕共振子s1の反共振周波数は直列腕共振子s2の反共振周波数よりも高く、(1)直列腕共振子s1にはKsawを調整する調整膜が形成されていない、または、(2)直列腕共振子s1に形成されるKsawを調整する第1調整膜は、第2調整膜よりも薄い。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)